cu团簇在属表面沉积的可控制研究：惰性气体缓冲层的作用.pdfVIP

摘要 纳来函簇势惩生长已瘟爱予蠢藏吴畜特豫鑫孽悲、毫、磁菇菠力学缝震豹纳寒薄骥。遂 年来，实现可掇制生长，使合成的薄膜具有团麟的特定结构，成为人们关注的焦点。应用 Ar缓冲层实现辅助沉积己成为潮簇结构无碎裂沉积的最有前途的方法之一。本论文用分子 动力学方法研究了c“翅簇捉鞭褒加季垂褒上翻e#溷蔟援积在矮鸯Ar缓律屡翦cu(111)裘 蕊上的动力学过穗和沉积团簇的结构特征，Cu-Cu、Ar_Ar及Ar-Cu原子之问的相互作用分 别幽Finnis—Sinclain紧束缚多体熟、L．J势及由H．．P．Cheng提出一种对势描述。 我{}3黄先研究具育正，、囊髂黠髂性豹c琳溺簇援积在恕(111)挂瘫基的缡鞫特征。发现 在入射能量在20eV／atom以下时，Cu6基本能够僳持其原有对称性结构，丽猷诧能薰入射捌 cu村底时，团壤则完全散开。当闭簇沉积在Ar衬底时，团簇酋先膨胀，失农原有结构，接 饕又收缩，重新饿爱自由团簇的继稳，其翔，朦予的相对伎鬟发生了改变。缨果表明，Ar 衬底的影响，帮Ar-Ar和Ar-Cu潦予闯的相互律塌对于团簇翁构的傈挎起到了麓关重要的佟 用。 在此基础上，我们又研究翼宥二十面体对称性的cul3沉积程有Ar缓冲层的Cu(111) 袭谶静动力学篷稷秘沉耪鹜簇瓣结