fed发光膜的制备及其性能研究.pdfVIP

摘要 场发射显示器(FED)具有高分辨率、高全色、全狄度、高亮度、和高对比度，响 应速度快，有很强的非线性I—V特性，适合多角度以及极端条件下应用，功耗低，节 省能源，冷阴极多微尖冗余发射，更加环保等优势，是新发展的一种很有前途的平板显 示器。目前，FED的发展也同样面临着一些挑战，例如：新显示材料和新的制各方法、 场发射阵列的新材料和新结构、FED的隔离柱材料及封装技术。显示屏作为FED的重要 组成部分，对显示材料和制备工艺提出了更高的要求。FED对于荧光材料的要求与传统 的CRT荧光材料不同，需要具有放气量小、导电性好、对阴极无害、能够在低压高密度 激发条件下工作等特性，在制屏工艺上，传统薄膜屏由于表面粗糙，致密及均匀性差， 容易造成光的反射且稳定性不好等缺点不能满足FED的要求，而薄膜屏因具有荧光层表 面平整、与基底结合良好、热稳定性高等优势，成为研究的热点。 本文首先以宽带隙半导体材料作为场发射阴极材料、以荧光薄膜作为阳极材料构建 了FED工作模型。研究了半导体材料场发射特性、极板间距，真空度，电子的渡越时间、 FED荧光薄膜的发光性能，探讨了一些提高FED性能的有效途径。为下一步的实验研究 提供理论依据。 本文还描述了薄膜生长的一般过程，采用统计物理学建立起来的原子成核和生长模 型，描述薄膜生长的基本过程。并利用蒙特卡罗(MonteCarlo)方法模拟薄膜生长。从 模拟的结果可以看出，覆盖度，基底温度与成团原子数之间有密切关系，影响着薄膜生 长。 在对薄膜屏工作原理、薄膜生长过程的研究基础上，用电子束蒸发方制备了Y。0，：Eu 膜都经过不同条件下退火处理，对制备的荧光薄膜的组成、结构、表面形貌、发光性能 进行系统分析，发现随着退火温度的升高，提高了薄膜的结品程度．弥补了薄膜晶体表 面的表面缺陷．改善了薄膜的发光性能。因此，退火处理是提高荧光薄膜发光性能的有 效方法之一。下一步，将在此基础上结合场发射阴极对荧光薄膜进行进一步的研究。 关键词：场发射显示器，蒙特卡罗模拟，Y：03：Eu荧光薄膜，ZnO：Zn荧光薄膜， YAGG：Tb，Gd荧光薄膜，ZnS：Zn，Pb荧光薄膜 Abstract At themediumof and an important present，displays，aspeople exchange，play computer the asfull role．FieldEmission oneof most color promising FPD Display(FED)is displays toits suchaswideview for angle，wide range owing advantages temperaturedriving，high without field and picture power responsespeed，and magnetic quality，low consumption，high lotof