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nico薄各向异性磁电阻效应

国昔痒痒巷太孽 鱼鱼塑!些!g型垡!丝!笪!丝 摘 要 本文研究了缓冲层和退火工艺对Ni74C026薄膜AMR的影响,就不同缓冲层和不同温 高和实际应用提供了参考数据。取得的结果可归纳如下: AMR值达到最大,而后NiCo薄膜A豫值随着缓冲层厚度的增大开始减小,当缓冲层厚度超 过9rim后,薄膜/gIR值迅速减小。 还是Ta做缓冲层,NiCo薄膜的各向异性磁电阻都随着NiCo薄膜厚度的减小而下降。用 冲层的同样厚度10rim的NiCo薄膜的A腿值为2.6%,提高了5096。 30%的提高,但随温度的继续升高A脓值急剧下降。 (4)X射线衍射结果表明不论哪个温度退火薄膜织构都得到了改善,但NiCo薄膜A慨 值却在温度超过2000C后下降很快,小于制备态各向异性磁电阻。这主要是由于扩散引起, 随着温度升高饱和磁矩Ms减小,矫顽力Hc增加。 关键词:各向异性磁电阻:缓冲层:NiCo薄膜;退火 @嘈卑停站夫孽 !变!堡!坐!!型竺!!坚笪!笪 Abstract and The films DC structural NiTdC026 by magnetronsputtering,the were:preparedusing werestudied inthesis.The resultsobtained搬 magneticproperties systematically major as summadzedfollows. that of ftlmshasbeenstudied.Theresultsshow thicknessonthe the 酾Cr34bufferlayer properties at decreaseswithx theAMRvalueofthefilmreachesamaximumvalue increases,at x=Snm,then valuedecreases x9nm,the rapidly. (2)TheAMRvalue ofthe10nm Tabuffer AMRvalue thatofthefilms on5nm deposited layer.Forexample,the the Ni74C026 buffer is2.6%.theAMRvalueof Ni74C026 depositedon(NislFel9)66Cr34layer Ta on bufferis1.6%. deposited layer AMRrcachsitsmaximumat enha

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