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氧空位对纯的和c(n)掺杂的锐钛矿二氧化钛电子结构及光催化活性的影响.pdf

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氧空位对纯的和c(n)掺杂的锐钛矿二氧化钛电子结构及光催化活性的影响

EFFECTS OF OXYGEN VACANCIES ON THE ELECTRONIC STRUCTURE AND PHOTOCATALYTIC ACTIVITY OF PURE AND C(N)-DOPED ANATASE TITANIUM DIOXIDE A Dissertation Submitted to the Graduate School of Henan University in Partial Fulfillment of the Requirements for the Degree of Master of Science By Lu Zhijuan Supervisor: Prof. Li Yuncai and Dr. Huang Xiaowei Date: June, 2013 摘 要 在还原气氛中或在真空中,纯净TiO2 和C (N )掺杂TiO2 体系中很容易产生氧空位, 但是其对各个体系电子结构和光催化活性的影响仍有较多争议。基于此,本文采用标准 密度泛函理论开展了以下三部分的研究内容:氧空位对纯净 TiO2 的电子结构及光催化 活性的影响;氧空位对C 掺杂TiO2 电子结构及光催化活性的影响;氧空位对N 掺杂TiO2 电子结构及光催化活性的影响。 通过形成能计算,发现在补偿掺杂(即氧空位释放的多余电子数与受主杂质引进的 空穴数相等)的情况下,氧空位更倾向位于杂质离子最近邻的位置上。 差分电子密度和Mulliken 布居分析表明,氧空位释放的2 个多余电子并没有局域在 氧空位附近。在含氧空位的纯净TiO2 体系中,这两个电子主要位于与氧空位相连接的3 个钛离子周围;在含氧空位的C(N)掺杂TiO2 体系中,这两个电子主要位于杂质离子和 与杂质离子相连接的Ti 离子周围。 在包含氧空位的C(N)掺杂TiO2 体系中,杂质引进了带间隙态,氧空位则显著降低 了深能级杂质带的能级,这使得光生载流子的复合几率极大地降低,对 TiO2 光催化活 性的提高非常有利。 包含氧空位的 C(N)掺杂 TiO2 体系具有与传统阴阳离子补偿共掺杂 TiO2 相似的优 点,即可以降低单掺杂引进的杂质带的能级,消除某些深能级杂质带,降低光生载流子 的复合几率。这为理解氧空位对C 和N 掺杂TiO2 电子结构及光催化活性的影响提供了 一条新的思路。 关键词:氧空位,C 掺杂TiO ,N 掺杂TiO ,电子结构,光催化活性 2 2 I II ABSTRACT Many studies have shown that it is easy to generate oxygen vacancies in pure, C-doped and N-doped TiO2 in a reducing atmosphere or in a vacuum, but a lot of controversies still exists about the effects of oxygen vacancies on the electronic structures and photocatalytic activity of various systems. So this issue deserves further study. In th

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