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显徽、测量、徼细加工技术与设备
3333l／mm
x射线全镂空
自支撑透射光栅的制备与测试
李海亮h2，马 刘 明2
杰2，朱效立2，吴 坚1，谢常青2，陈宝钦2，
(1．北京工业大学激光工程研究院，北京100022；
2．中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室，北京 100029)
摘要：针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需
求，将电子束光刻和X射线光刻技术相结合，制备出3333
1／mmX射线全镂空透射光栅，栅线
宽度接近150nm，周期300nm，栅线厚度为500
am，有效光栅面积达到60％。首先利用电子
束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模，然后利用X射线光刻
和微电镀技术实现了光栅图形的复制品，之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构，最后
通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作。在国家同步辐射实验室光谱辐
射和计量实验站上对此光栅在5～23am波段进行了衍射效率标定。标定结果表明所制备的光栅
栅线平滑，占空比合理，侧壁陡直，不同光栅之间一致性好，完全可以满足应用需求。
关键词：镂空透射光栅；电子束光刻；X射线光刻；微电镀；衍射效率
中图分类号：TN305
FabricationandMeasurementof
3333
l／mm
X-Ray
TransmissionGratin
Self-Standing
Li Xiaoli2，Wu
Hailian91”，MaJie2，Zhu Jianl，XieChangqin92，ChenMin92
Baoqin2，Liu
(1．InstituteLaser
of Engineering，BeijingUniversity 100022。ChinaI
ofTechnology，Beijing
Nano-FabricationandNovelDevices
2．KeyLaboratoryof Integrated Microelectronics，
Technology，Instituteof
Chinese
Academyof 100029，China)
Sciences，Beijing
Abstract：Tomeettheneedof transmissionfor
highdensityX—rayself-standing gratingsspace
andlaser inChina，3333
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