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任务5.1 认知二极管 5.1.1 半导体基本知识 1 P型与N型半导体 在物理学中,按照材料的导电能力,可以把材料分为导体与绝缘体。衡量导电能力的一个重要指标是电阻率,导体的电阻率小于10-6 Ωcm,绝缘体的电阻率大于106 Ωcm,介于导体与绝缘体之间的物质被称为半导体。在电子技术中,常用的半导体材料有硅(Si)、锗(Ge)和化合物半导体, 如砷化镓(GaAs)等, 目前最常用的半导体材料是硅。 目前半导体工业中使用的材料是完全纯净、结构完整的半导体材料,这种材料称为本征半导体。当然,绝对纯净的物质实际上是不存在的。 半导体材料通常要求纯度达到99.999999%,而且绝大多数半导体的原子排列十分整齐,呈晶体结构。本征硅原子最外层有四个电子,其受原子核的束缚力最小,称为价电子,如图5-1所示。晶体的结构是三维的,在晶体结构中,原子之间的距离非常的近,每个硅原子的最外层价电子不仅受到自身原子核的吸引,同时也受到相邻原子核的吸引,使得其为两个原子核共有,形成共有电子对,称为共价键结构。 在热力学温度零度(即T=0 K,约为-273.15℃)时, 所有价电子被束缚在共价键内,不能成为自由电子。所以此时的半导体的表现就和绝缘体一样,不能导电。 在本征半导体中掺入五价元素磷。由于掺入杂质比例很小,不会破坏原来的晶体结构。掺入的磷原子取代了某些位置上的硅原子,如图5-2所示。磷原子参加共价键结构只需要四个价电子,多余的第五个价电子很容易挣脱磷原子核的束缚,成为自由电子,于是半导体中的自由电子数目大量增加。这种由大量自由电子参与导电的杂质半导体称为电子型半导体或N型半导体。 在本征半导体中掺入三价元素硼。由于每个硼原子只有三个价电子,所以就形成了一个天然的空穴。这样,在半导体中就形成了大量的空穴。这种由大量空穴参与导电的杂质半导体称为空穴型半导体或P型半导体,如图5-3所示。 在掺杂半导体中多数载流子主要是由掺入的杂质元素提供的,所以可以通过控制掺杂浓度来改变半导体的导电能力。掺杂半导体中尽管有一种载流子占多数,但是整个晶体仍然是呈电中性的。 2 PN结及其特性 在一块完整的硅片上,用不同的掺杂工艺使其一边形成N型半导体, 另一边形成P型半导体,那么在两种半导体交界面附近就形成了PN结, 如图5-4所示。 P型半导体和N型半导体结合后,在它们的交界处就出现了自由电子和空穴的浓度差。N型区内的自由电子很多而空穴很少,P型区内的空穴很多而自由电子很少,这样自由电子和空穴都要从浓度高的地方向浓度低的地方扩散。因此,有些自由电子要从N型区向P型区扩散,也有一些空穴要从P型区向N型区扩散。自由电子和空穴带有相反的电荷,它们在扩散过程中要产生复合,结果使P区和N区中原来的电中性被破坏。P区失去空穴留下带负电的离子,N区失去自由电子留下带正电的离子,这些离子因物质结构的关系,它们不能移动,因此称为空间电荷,它们集中在P区和N区的交界面附近,形成了一个很薄的空间电荷区,这就是所谓的PN结。 在空间电荷区后,由于正、负电荷之间的相互作用,在空间电荷区中形成一个电场,其方向从带正电的N区指向带负电的P区,由于该电场是由载流子扩散后在半导体内部形成的,故称为内电场。显然,内电场对多数载流子的扩散运动起阻碍作用,但却把P区的少数载流子(包括N区扩散到P区的)电子拉向N区, 把N区的少数载流子(包括P区扩散到N区的)空穴拉向P区,形成所谓的漂移运动。 综上所述,PN结中存在着两种载流子的运动。一种是多数载流子克服电场阻力的扩散运动;另一种是少数载流子在内电场的作用下产生的漂移运动。因此,只有当扩散运动与漂移运动达到动态平衡时,空间电荷区的宽度和内建电场才能相对稳定。由于两种运动产生的电流方向相反,因而在无外电场或其他因素激励时,PN结中无宏观电流。 PN结在未加外加电压时,扩散运动与漂移运动处于动态平衡, 通过PN结的电流为零。当电源正极接P区,负极接N区时, 称为给PN结加正向电压或正向偏置,如图5-5所示。 由图可见,外加电压在PN结上形成外电场,此时外电场与PN结内电场的方向相反。在外电场作用下,载流子的扩散运动和飘移运动的平衡被打破,外电场驱使P型区中的多数载流子(空穴)和N型区中的多数载流子(自由电子)都向PN结运动。 当P型区空穴进入PN结后,就要与PN结中P型区的负离子复合,使P型区的电荷量减少;同时N型区自由电子进入PN结后,就要与PN结中N型区的正离子复合,使N型区的电荷量减少。结果PN结变窄,于是N区的自由电子不断地扩散到P型区,形成扩散电流。然而,当外加电压较小时,并不能完全削弱内电场,此时,只有很小的电流,只有外加电压增加到某一值时,才产生较大的扩散电流,该电压称为PN结的死区电压,一般硅材料为0.7
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