钢领电弧离子镀iaicn薄膜的工艺研究.pdfVIP

RESEARCHoFTIALCNFILMSDEPoSITED PRoCESSBYARCIoNPLATINGoNTHERINGS AThesisSubmittedto Shaanxi ofScienceand University Technology in forthe of PartialFulfillmentofthe RequirementsDegree Masterof Science Engineering l By Zehui Zhang un Supervisor：Prof．LijYang 2014 May 钢领电弧离子镀TiAICN薄膜的工艺研究 摘要 钢领是纺织细纱机的主要易耗件之一，对纺纱质量和成本有重 要影响。本文采用真空电弧离子镀技术实现了钢领在低温条件下的 C、 N、Al、Ti四元共镀，解决了钢领表面硬度低、耐磨性能差、 摩擦系数大的问题。本文主要研究了基体硬度、基体表面粗糙度、 负偏压、弧电流和气体流量对TiAlCN薄膜性能的影响。通过对实验 结果的分析，得到以下结论： o (1)利用电弧离子镀技术在GCrl 80 5钢领基体上低温(小于1 C) 成功制备了TiAlCN薄膜。膜／基附着力超过30N，薄膜厚度为 2～2．29m，硬度超过1700HV。 (2)基体表面粗糙度小，制备的薄膜表面平整性好，膜／基附着 力大。在粗糙度为O．01“m时，附着力达到42．8N。基体硬度高，附 1．2N。 着力大，在基体硬度为835HV时，附着力达到3 方晶体结构。在X射线衍射图谱中，由于TiN相比A1N相优先形成， 因此薄膜中并没有A1N的存在，A1N相的存在会降低薄膜力学性能。 1 6．8400、36．8230和 (4)负偏压增大，TiN(11)20角分别为3 36．73 硬度、厚度和附着力先增大后减小，颗粒数目先增加后减少。在．50V 时，球形颗粒少，大颗粒数目约为200个，薄膜表面有部分裂纹存 在；．100V，薄膜表面颗粒较小且分布均匀，颗粒数目约为680个， 00V 制备的薄膜致密；．150V，颗粒的数目约为590个，颗粒尺寸和．1 时的颗粒的尺寸差不多。 (5)弧电流增大，TiN的峰先左移后右移，晶胞参数先增大后 减小，发生了晶格畸变，薄膜的硬度和附着力先增大后减小，颗粒 数目一直增加。40A时薄膜表面有裂纹存在，大颗粒数目约为250 个，颗粒尺寸大于2肛m的较少，但最大的颗粒尺寸达到10“m；50A 时，颗粒数目约为680个，薄膜表面颗粒小且分布均匀；60A时， 颗粒的数目约为700个，但是颗粒尺寸比50A时的颗粒的平均尺寸 要小一倍。