级联缩微微纳米制造技术及研究.pdf

博 士 后 工 作 总 结 丹【『 吾 本总结报告意在根据本人现阶段对级联缩微制造技术的理解以及该技术在我心 目中的图景，力图为涉猎广泛的读者提供一个全景式的介绍，同时兼顾细节的近距离 观察，所介绍的各个方面， 如有言过其实之嫌皆出自理解的偏妥和认识的偏差， 并 无传统的卖瓜者说瓜甜之类的误导故意。为谨防读者上当受骗，希望读者在看的时候 务必保持清醒的头脑和批判的眼光。 在我的理念中，级联缩微技术是一种基于实物转印和转移的从上到卜的微纳米制 造技术．是一个通用型制造技术平台，不仅是微纳米结构制造的技术平台，也是现 代高通量技术的制造平台，其意义不亚于半导体工业和微电子技术中的光蚀刻技术。 级联缩微技术项目是一自筹资金研究项目。开展本项目研究基于下面的理由和 考虑： ● 光蚀刻技术既是半导体工业的核心技术也是制造微纳米结构的主流技术，然而 由于受到瑞利散射的限制，光源波长存在极限，通过改用短波长光源如紫外、深紫外 及X射线等，虽然突破了光源波长的限制，但是光蚀刻体系的制造成本成为光蚀刻技 术继续在纳米领域发挥巨大作用的制约因素。为此， 当今科学界和业界发展了许多 新技术：软蚀刻、纳米蚀刻、扫描探针蚀刻以及激光烧蚀等。然而，这些技术依然存 在缺陷，软蚀刻本身没有缩小功能，其模板制造离不开光蚀刻技术， 因此软蚀刻图 样面临着光蚀刻技术所面临的问题。扫插探针蚀刻和纳米蚀刻技术虽然能够直接制造 纳米级细节结构，但是其加工范围小、效率低使这些技术难以成为实用性强的纳米制 造技术：’激光技术虽然是深度撞击现代社会生产生活的又一项伟大技术，然而， 由 于其波长和聚焦问题，在微纳米制造领域的作用极为有限。 许多高通量技术常常要求将不同种类的实物分门别类地分布在微米甚至纳米级 位置上，光蚀刻技术不仅是微纳米制造技术的核心技术，也是当前各种高通量技术的 主要制造手段，然而，光蚀刻方法只能对几何图形进行转移和缩小操作，不能转移实 物，使得其在高通量技术这种领域的应用受到严重挑战。 软蚀刻技术和扫描探针蚀 刻技术虽然能够在微米甚至纳米尺度上进行实物的转移，由于+次只能转移一‘种实 物，因此也难以适应现代高通量技术的要求 在这样一种技术背景下，我们致力于新型微纳米制造雨I高通量技术的开发研究。 首先，来自科学研究本身的客观要求，用微米级或纳米级的建筑模块构筑长程 博 士 后 工 作 总 结 有序的表面是对人类现有科学技术的挑战； 其次，生物芯片、药物筛选芯片、材料芯片等现代高通量技术动辄要求将成千 上万种不同材料分布到微米甚至纳米级的位置上，对现有技术在材料转移能力上进行 挑战， 现有的技术不能矧时操作多种不同材料： 第三，传统的光蚀刻技术作为一种从上到下的制造技术受到制造成本和技术本 身的限制，其在纳米制造领域的制造能力受到置疑，正努力寻找新的替代技术：。 第四， 胡钧教授追求原创的强劲动力。 级联缩微制造技术具有如下特点： 1新型从上到下制造技术 2直接转移实物 3图案元素尺寸的指数幂形式减少 4元素密度的高阶指数幂形式增加 5图形和实物的同时转移和同步缩小 6多元组分实物的同步转移和同步缩小 7元素尺寸与间距同时缩小 8操作简单性 9高效率趋近微米甚至纳米世界 10广泛兼容性 200|孓1口10 4 搏 上 厉 工 作 总 鲒 ’ 致 谢 作者感谢上海交犬殿嫩命学院