《MEMS器件制造中镍的化学机械抛光研究》.pdfVIP

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2015-12-09 发布于河南
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《MEMS器件制造中镍的化学机械抛光研究》.pdf

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《MEMS器件制造中镍的化学机械抛光研究》.pdf

RareMetalMaterialsand Availableonlineat Engineering Volume 2012 o”∥毋 41，Issue4，April Online editionoftheChinese English languagejourna ofCMPofNiinthe Processof Investigation Preparation Micro—·Electro-·Mechanical Devices System Chu BaiLinshan Xiangfeng，LiXiujin，DongYongping，ZhangWangbing， Anhui of UniversityTechnology,Maanshan243002，China mechanical werecarriedout nickelandhome-made Abstract：CMP(chemical byusinghighpurlty slurry． polish)experiments of andtheirconcentrationas Theeffects down value，H202 wellas polishingforce，pH concentration，chelatingagentspecies concentrationonthematerialremoval TheresultsrevealthatMRRcanreach312．3 particle rate(MRR)wereinvestigated nm／minunderthe conditions：thedownforceis concentrationis following 13．79kPa，H202 0．5％(massfraction)，pH=3．0， is concentrationis05％andEDTAconcentration1％．Thebettersurface Callbeobtainedunderthe Si02 quailty following conditions：thedownforceis13．79 concentrationis concentrationis concentrationis kPa，H202 1％，pH=4．0，Si02 1％，EDTA thesurface RaCallreach5nm． 1％．and roughness mechanical