现代质量工程 作者 卢碧红 第7章 质量检验与供应商质量管理 to出版社.PPTVIP

7.3.2 测量系统分析的基本流程 1．对测量系统的基本要求 （1）足够的分辨率和灵敏度。 （2）测量系统必须处于统计控制状态，即稳定状态； （3）对于产品控制，测量系统的变异性与公差相比必须很小； （4）对于过程控制，测量系统的变异应该显示有效的分辨率并且与制造过程变差相比要小。 7.3.2 测量系统分析的基本流程 2．测量系统分析的程序 （1）MSA计划的制定。内容包括: 1）确定需分析的测量系统； 2）确定用于分析的待测参数/尺寸或质量特性； 3）确定分析方法，如计量型测量系统可采用均值极差法，计数型测量系统可采用小样法等。 4）确定测试环境，尽可能与测量系统使用环境一致。 7.3.2 测量系统分析的基本流程 2．测量系统分析的程序 （2）量具的准备： 1）应针对具体尺寸/特性选择控制计划指定的量具； 2）确保要分析的量具是经校准合格的； 3）仪器的分辨率一般小于被测参数允许差的1/10。 7.3.2 测量系统分析的基本流程 2．测量系统分析的程序 （3）测试操作人员和分析人员的选择： 1）测量时应尽量采用盲测，以排除人为的干扰。 2）盲测是指在实际测量环境下，在操作者事先不知正在对该测量系统进行评定的条件下，获得的测量结果。实际操作中大多只能实现部分盲测； 7.3.2 测量系统分析的基本流程 2．测量系统分析的程序 3）测试人员和分析人员不能是同一个人，测试操作人员实施测量并读数，分析人员作记录并完成随后的分析工作； 4）应优先选择实际实施测试的操作工/检验员； 5）测试操作人员和分析人员应经过培训，熟悉操作方法和分析方法。 7.3.2 测量系统分析的基本流程 2．测量系统分析的程序 （4）分析用样品的选择： 1）样品必须从实际生产或检验过程中选择，并考虑尽可能代表实际生产中存在所有产品变差； 2）样品可以通过每一天取一个样品，持续若干天的方式进行选取。 7.3.2 测量系统分析的基本流程 3．测量系统分析的注意事项 1）给样品编号，测量人不应看到此编号，而记录人知道。在测量时，应每测一次换一个零件； 2）给样品标上测量位置，多次测量同一位置其结果不一样才可认为是测量系统的变差。 3）量具的可视分辨率应是产品公差/过程变差的十分之一，若允许，读数时可读到分度的一半。 7.3.3 测量系统分析方法 1）确定一个样本并获得其基准值。有时需要有预期 测量的最高、最低和中间值的样本，各自单独分析； 2）一位评价人测量该样本10次； 3）计算该样本的测量平均值X。 （1）偏倚的分析——独立样本法： 7.3.3 测量系统分析方法 偏倚（B）＝测量平均值（X）- 基准值（XT） （7.11） 过程变差＝6σ （7.12） ％偏倚＝100×偏倚/过程变差 （7.13） （1）偏倚的分析——独立样本法： 7.3.3 测量系统分析方法 【例7.14】某塞规量程是0.8±0.35，参考标准是0.80mm。过程变差为0.70mm，同一操作者对同一工件测量7次，测得数据如表7-7，请计算其偏倚，并对系统进行分析。 X10=0.70 X9=0.75 X8=0.75 X7=0.75 X6=0.80 X5=0.65 X4=0.80 X3=0.80 X2=0.75 X1=0.75 偏倚=0.75-0.8=-0.05； ％偏倚＝100×（0.05/0.7）=7.1% 解：测量数据的平均值 表7-7 某量具的偏倚分析数据 （1）偏倚的分析——独立样本法： 7.3.3 测量系统分析方法 偏倚接受准则： ①对测量特殊特性的测量系统，偏倚%≤10%时可接受，偏倚%＞10%时，不能接受。 ②对测量非特殊特性的测量系统，偏倚%≤20%时可接受，偏倚%＞20%时，拒绝接受。 7.3.3 测量系统分析方法 测量系统的线性是指在其量程范围内，偏倚应是基准值的线性函数； 一个测量系统不具有线性，那它不是一个合格的测量系统； 如果一个测量系统在设计时具有线性，但在使用时发现为非线性，就要查找原因，及时纠正或校准。 （2）线性分析 7.3.3 测量系统分析方法 线性分析的步骤： 1）选择g（≥5）个零件，由于过程变差，这些零件测量值应覆盖量具的操作范围。 2）确定每个样本的基准值； 3）仪器操作者中每一人测量每个零件m（≥10）次，随机地选择零件以使评价人对测量偏倚的“记忆”最小化； （2）线性分析 7.3.3 测量系统分析方法 4）计算每个样本的平均值Xi，分别减去各自的基准值，得到各自的偏倚平均值Bi