仪器分析SEMTEM.ppt

扫描电子显微镜（SEM） Transmittance Electron Microscopy 透射电子显微镜（TEM） Scanning Electron Microscopy 扫描电子显微镜 1. 引言 2. 电子与固体试样的交互作用 3. 扫描电镜结构原理 4. 扫描电镜的主要性能 5. 扫描电子显微镜的几种电子像分析 （一）表面形貌衬度原理及应用 （二）原子序数衬度原理及应用 1. 引 言 扫描电子显微镜的简称为扫描电镜。它是用细聚焦的电子束轰击样品表面，通过电子与样品相互作用产生的二次电子、背散射电子等对样品表面或断口形貌进行观察和分析。现在SEM都与能谱（EDS）组合，可以进行成分分析。所以，SEM也是显微结构分析的主要仪器，已广泛用于材料、冶金、矿物、生物学等领域。 一束细聚焦的电子束轰击试样表面时，入射电子与试样的原子核和核外电子将产生弹性或非弹性散射作用，并激发出反映试样形貌、结构和组成的各种信息，有：二次电子、背散射电子、阴极发光、特征X 射线、俄歇过程和俄歇电子、吸收电子、透射电子等。 样品本身要保持电平衡，这些电子信号必须满足： ip=ib+is+ia+it  式中：ip 是入射电子强度； ib 是背散射电子强度； is 是二次电子强度； ia 是吸收电子强度； it 是透射电子强度。将上式两边同除以ip，η+δ+a+T=1  式中：η= ib/ip 为背散射系数； δ= is/ip 为二次电子发射系数； a = ia/ip 为吸收系数； T = it/ip 为透射系数。 扫描电镜 由电子光学系统，扫描系统,信号收集处理、图像显示和 记录系统，真空系统，电源系统五部分组成 (1)电子光学系统（镜筒） 由电子枪、聚光镜、物镜和样品室 等部件组成。 扫描电镜一般有三个聚光镜： 前两个透镜是强透镜，用来缩小电子束光斑尺寸。 第三个聚光镜是弱透镜，具有较长的焦距，在该透镜下方放置样品可避免磁场对电子轨迹的干扰。 (2) 扫描系统  扫描系统由扫描发生器和扫描线圈组成。它的作用是： 1) 使入射电子束在样品表面扫描，并使阴极射线显像管电子束在荧光屏上作同步扫描； 2) 改变入射束在样品表面的扫描幅度，从而改变扫描像的放大倍数。 (3) 信号收集和图像显示系统 扫描电镜应用的物理信号可分为： 1) 电子信号，包括二次电子、背散射电子、透射电子和吸收电子。吸收电子可直接用电流表测，其他电子信号用电子收集器； 2) 特征X射线信号，用X射线谱仪检测； 4. 扫描电镜的主要性能 （1）放大倍数 可从20倍到20万倍连续调节。 （2）分辨率 影响SEM图像分辨率的主要因素有： ①扫描电子束斑直径 ； ②入射电子束在样品中的扩展效应； ③操作方式及其所用的调制信号； ④信号噪音比； ⑤杂散磁场； ⑥机械振动将引起束斑漂流等，使分辨率下降。 （3）景深 SEM（二次电子像）的景深比光学显微镜的大，成像富有立体感。可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构 5.扫描电子显微镜的几种电子像分析 像衬原理 电子像明暗程度取决于电子束的强弱，当两区域中电子强度不同时将出现图像的明暗差异，这种差异就叫衬度。 SEM可以通过样品上方的电子检测器检测到具有不同能量的信号电子有背散射电子、二次电子、吸收电子、俄歇电子等。 （一）表面形貌衬度原理及应用 二次电子成像原理 二次电子形貌衬度及特点 二次电子信号主要来自样品表层5-10nm深度范围，能量较低(小于 50eV)。 影响二次电子衬度的因素主要有： (1)表面凸凹引起形貌衬度； (2)材料的原子序数差别引起成分衬度； (3)电位差引起电压衬度； （4）样品倾斜角影响信号强度 二次电子像衬度的特点： （1）分辨率高 （2）景深大，立体感强 （3）主要反应形貌衬度 （二）原子序数衬度原理及应用 一、背散射电子成像 一、背散射电子成像 一、背散射电子成像 一、背散射电子成像 一、背散射电子成像 背散射电子像的衬度特点： （1）分辩率低 （2）背散射电子检测效率低，衬度小 （3）主要反应原子序数衬度 应用： 1．定性分析物相 2．显微组织观察 3．其它应用（背散