电弧离子镀过程中脉冲偏压对TiCN薄膜影响.pdfVIP

摘 要 在本文中，我们利用真空阴极弧沉积技术对TiCN薄膜进行了制备与研究。 利用高纯的钛靶放电制备了TiCN薄膜，重点分析了偏压对薄膜的组织结构、机械 性能及电化学性能的影响。研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。 研究结果表明，随着偏压的增大表面形貌中的大颗粒数量减少，薄膜质量得到改 善，通过观察薄膜的断面形貌发现随着偏压增大，薄膜中的柱状晶逐步得到细化、致 密度提高。随着偏压的增加，镀层中的氮化物增加，镀层硬度的增加提高了其耐磨性 能，而偏压继续增加，镀层的耐磨损性能又在下降。薄膜的耐腐蚀性能并不随着偏压 的增加而升高，反而降低。 关键词：真空阴极弧薄膜偏压TiCN ABSTRACT Inthis TiCNfilmwas cathodicvacuum dissertation,the depositedby arc(CVA) technique． Ticn filmswere via of Tiin and prepareddischargehigh—purityAt,N2C2H2 background．Theof dependencemicrostructure，mechanicalproperties，and onthedifferentsubstratebiaswasstudied． properties Itshows thatasthesubstratebiasis film wear up，the good going repmsentqualities．The resistanceCallbe butcontinueincreasethefilm a wearresistance． improved getpool Corrosionresistanceofthinfilmdoesnotendwiththe of bias．butloweT． increasing words：cathodicvacuum Key arc；film；Bias；TiCN 第一章绪弟一旱殖 化论 1．1 引言 I．Newton观察到在液体表面上液体薄膜产生的相干彩色花纹，随后，各种制备薄膜的 方法和手段相继诞生，1852年W．Grove发现了辉光放电的溅射沉积薄膜方法。 材料蒸发的物理蒸发制备薄膜方法。虽然薄膜技术不断发展，但薄膜的应用最早则只 局限于抗腐蚀和制造镜面。由于早期技术落后，所得的薄膜重复性差，从而限制了薄 膜的应用。只有在制备薄膜的真空系统(如电子显微镜，低能电子衍射及其其他表面 分析技术)有了长足进步以后，薄膜的重复性才有改观，从此薄膜的应用也迅速拓展， 尤其到了20世纪50年代，随诊电子工业和信息产业的兴起，薄膜技术和薄膜材料越 发显示出其重要的，关键性作用。今天，薄膜技术和薄膜材料已经渗透到现代科技和 国民经济的各个重要领域，如航空航天、医药、能源、交通、通信和信息等。同样， 在高新技术产业，薄膜技术和薄膜材料也占有重要的一席之地。如今，薄膜材料正在 向综合型、智能型、复合型、环境友好型、节能长寿型以及纳米化方向发展，它必将 为整个材料的发展起到推动和促进作用。现在，某一新材料的研究与开发，往往起始 于这种新材料的薄膜合成与制备，薄膜技术已经成为新材料研制必备的、不可或缺的 重要手段之一。 1．2薄膜制备的常见方法 薄膜材料的制备的一般方法分为化学方法和物