激光干涉图案二维相移控制研究.pdf

摘 要 纳米技术是当今世界的一项关键技术，己成功用于包括医学、药学及生物检测等 许多领域。纳米光刻技术具有很重要的应用自仃景。在多种纳米光刻技术中，激光干涉 纳米光刻技术是一种廉价光刻手段。为了提高激光干涉图案的分辨率、保证干涉图案 的质量和得到大面积的干涉图案，需要在激光干涉纳米光刻系统中实现对相移的精确 控制。 本文是在激光干涉系统中，通过控制纳米位移来实现激光干涉图案的二维相移控 制和扰动补偿的研究。纳米位移是用高分辨率D／A转换器和精密电压源驱动压电陶瓷 (PZT)反射镜平台来实现的，当给压电陶瓷施加不同的电压时，压电陶瓷会产生伸缩， 带动反射镜平台向前或向后移动，通过改变光程差来实现干涉图案相移的精确检测和 控制。 关键词： 纳米技术，激光干涉光刻，二维相移控制 ABSTRACT ithasbeen used in world，and successfully isa