曲面微光学结构纳米压印制备技术的研究.pdfVIP

Classified Index: TH162+.1 U.D.C: 681.7 Dissertation for the Master Degree in Engineering ↑ （Times New Roman 小2 号字） RESEARCH ON TECHNOLOGIES OF CURVED MICRO OPTICAL STRUCTURES FABRICATION BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY ↑ （Times New Roman 2 号字加粗，题目太长时可用小2 号字） Candidate ： Luo Zhe Supervisor ： Prof. Jin Peng Academic Degree Applied for ： Master of Engineering Speciality ： Instrument Science and Technology Affiliation ： Department of Automatic Measurement and Control th Date of Defence ： June 27 , 2013 Degree-Conferring-Institution ： Harbin Institute of Technology （Times New Roman 4 号字） 摘 要 摘 要 曲面光栅具有平面光栅和透镜两种光学器件集成的功能。利用曲面光栅取 代透镜和平面光栅的光路组合，可极大地减少透镜的数目与质量，从而简化光 路，加强光学器件的集成度，提高有效载荷，进一步降低成本，提高系统的稳 定性。曲面光栅成为当前光栅制备研究领域的一个主要研究方向，其应用领域 正不断扩大，特别是在紫外光谱仪、表面轮廓仪、非接触式测量等测量设备中。 本课题主要针对曲面微光学结构的制备，通过深入分析硅的各向异性湿法 腐蚀机理，综合采用光刻工艺、湿法腐蚀工艺、纳米压印工艺，提出了一种高 精度、低成本、高产出、大尺寸、微结构制作曲面衍射光栅的方法。主要研究 工作如下： 首先，基于硅的各向异性湿法腐蚀机理，综合考虑掩膜层选择、掩膜层厚 度选择、腐蚀液选择、实验条件选择等因素对硅光栅制备的影响，提出最优化 实验方案，为制备腐蚀面粗糙度低、光栅有效面积大、光栅周期精度高、图案 间隔小的硅光栅提供理论基础； 其次，设计并制作完成线宽 6μm 周期等腰闪耀光栅和线宽 8μm 周期倒金 字塔衍射光栅的最优化制备，在{100}型硅基底表面实现一维/ 二维衍射光栅印 模制作，且光栅有效面积大(15mm ×15mm)、表面粗糙度低(30nm) 、有效覆盖 率高； 最后，通过紫外固化纳米压印技术，实现光栅结构从硅基底到PDMS 软压 印印模、再到曲面的纳米压印制备。检测结果表明，光栅周期间距好，条纹清 晰，有效面积比高，实现曲面衍射光栅大面积、高产率、高精度的微纳制备。 关键词：紫外压印；曲面衍射光栅；硅光栅；各向异性湿法腐蚀 - I - Abstract （Times New Roman 小5 号字） Abstract Curved grating has the