有限预应变软弹性衬底上的图案形成和微结构演化.pdf

摘要 摘要 纳米结构的自组装为新材料的合成带来了新的机遇，也为新的物理和化学研 究提供了新的研究对象。但如何更好的控制自组装，让自组装朝着设计好的方向 自发进行，需要对自组装规律和机理有进一步的更深刻的理解。目前自组装的研 究一般都是在固体表面进行，相对而言，软弹性衬底上的自组装现象尚未得到充 分关注。而软弹性材料由于其独特的优点，在微电子工业中的应用越来越广泛。 如何利用软弹性材料高弹性的特点，实现其对表面自组装过程的调控，还有待进 一步的探索。因此，本文以软弹性衬底为研究对象，建立了基于软弹性固体变形 的相场动力学模型，通过数值模拟，研究了有限预应变软弹性衬底上单层膜的图 案形成和微结构演化，并探讨了软弹性衬底上自组装过程的可控性。本文的主要 工作可归纳如下： 研究了有限预拉伸对软弹性衬底上二元单层膜相分离组分畴自组装过程的 影响。以组分浓度作为序参量，计入衬底弹性变形的影响，建立了一个适用于模 拟软弹性衬底上单层膜自组装过程的连续相场模型，模拟了有限预拉伸软弹性衬 底上二元单层膜的组分演化。数值模拟结果表明，有限预拉伸控制组分畴的生长 方向，引导图案沿预拉伸方向优先生长。有限预拉伸的强度越大，条纹的宽度和 间距越小。有限预拉伸强度的增大，也加速了条纹形成的过程。改变单层膜的组 分浓度和衬底的有限预拉伸强度，可得到多种多样的有序图案，包括伸长的点阵， 平行的段状条纹，以及完全平直的条纹等。图案的特征尺寸由有限预拉伸的强度 决定。所以，相分离图案可通过调节衬底的有限预拉伸强度和单层膜的组分浓度 来进行有效的调控。 研究了表面化学修饰和衬底有限预拉伸的联合作用对软弹性衬底上自组装 图案形成的影响。对衬底进行预先的有限拉伸，可以调节衬底的瞬时弹性性质、 材料对称性以及其与表面上分子的相互作用，而表面化学修饰则导致了局部平均 浓度的改变。考虑表面化学的影响，建立了二元单层膜组分演化的连续相场动力 学模型。连续相场动力学模拟结果揭示了；通过表面化学修饰，改变了衬底表面 的局部平均浓度，导引组分畴形核，形成了丰富的演化初始图案，从而引导最终 生成的图案花样；有限预拉伸则控制了组分畴的生长方向，从而增加了相分离图 案的有序性。在表面化学修饰和衬底有限预拉伸的联合作用下，获得了可控性更 高、形貌更丰富的相分离图案。 研究了多组分和衬底的有限预拉伸对软弹性衬底上自组装图案形成的影响。 组分的增加，使得系统的能量也随之发生较大变化。因此综合考虑有限预拉伸和 摘要 多组分的共同作用，建立了一个模拟三元单层膜组分演化的连续相场动力学模 型。模拟结果表明，相分离图案很大程度依赖于有限预拉伸的强度和各相的相对 百分比。有限预拉伸引导组分畴的生长方向，浓度影响着各组分畴的尺寸大小， 分布状况以及连续性。 关键词：有限预拉伸；自组装；单层膜；表面纳米结构；相场动力学模型 Il ABSTRACT ABSTRACT ofnanostructurenew forthe ofnew Self-assembly bringsopportunitysynthesis offersnew for and further chemicalresearch．It materials，and topicsphysical requires understandonhowcontrol to the whichmakesthe self-assembly self-assembly under direction．Whilemostofthe studi