NiSi-NP的制备及其电学特性研究.pdfVIP

郑州大学硕士论文 N淤i-NPA的制各及其电学特性研究 摘要 本文以水热腐蚀技术制备的具有规则表面形貌和结构的硅纳米孔柱阵列 (Silicon Nanoporous 积技术并调控溶液中Ni2+浓度、溶液的pH值、采用具有不同表面氧化状况的 Si-NPA衬底及改变沉积时间等条件，制备了具有不同图案化结构的镍／硅纳米孔 柱阵列纳米复合体系。系统研究了Ni2+浓度、溶液pH、Si-NPA表面氧化状况、 沉积时间、退火温度等制备条件对所制备样品的表面形貌和结构的影响。分析了 其形成机理，并对比研究了样品退火前后的电学特性。取得了如下研究结果： 碱性NiS04溶液中沉积后，虽然其表面有镍沉积，但表面硅柱在沉积过程中 被严重腐蚀，制备不出具有图案化阵列结构镍／硅纳米复合体系；与此相反 列结构特征且经过EDS测试也表明在其表面有镍的沉积。综合以上我们决定 选用碱性NiSO,-N}{4F溶液作为制各样品的浸渍溶液。 底、改变沉积时间等条件，进一步优化制备具有图案化结构特征的镍／硅纳米 复合体系的条件。分析表明，(1)Ni2+浓度对Ni／Si-NPA表面形貌和结构有很 列结构特征；而低的Ni2+浓度下制备的Ni／Si-NPA其衬底规则的阵列结构几 乎完全被破坏；(2)溶液的pH对Ni／Si-NPA的表面形貌和结构也有很大的影 响：pH=6时，硅柱溶解不同于碱性溶液柱体中上部分溶解速率大于柱体中下 部分，而是硅柱整体溶解，整个硅柱变细；(3)老化的Si-NPA衬底上制备的 Ni／Si-NPA，随着老化时间的增加柱体溶解的速率就越大，所制备出的 Ni／Si-NPA不具有理想的图案化阵列结构特征。通过以上比较得出了较理想的 Ni2+浓度、溶液的pH值、新鲜Si．NPA等制备条件。然后研究了在此条件下， 浸渍时间对制备样品表面形貌和结构的影响。 3．把2中的优化条件下制备的Ni／Si-NPA纳米复合体系，放置到管式炉中分别 加热到400℃、600℃、800℃退火处理2个小时。退火后，样品在微米层次 郑州大学硕士论文 Ni／Si-NPA的制备及其电学特性研究 上基本上保持退火前样品表面的规则阵列排布形式。随着退火温度的升高， 样品表面的化学组成发生了很大的变化：温度低于600C时，样品表面只是 颗粒尺寸的增大，而组成物质没有变化；当温度不小于600C时，样品表面 的组成物质从镍颗粒变为氧化镍颗粒。 得的势垒高度要大于C-V测试的势垒高度，并分析了原因。通过研究低温下 不同工作温度对Ni／Si-NPA／Si复合结构中理想因子的影响，发现随着温度的 降低理想因子逐渐增大；测试了它在空气中放置时间对其电学性能的影响， 发现几次测试的I．V曲线几乎完全重合，说明样品的放置时间对其电学特性 影响不是很大。 5．对Ni／Si-NPA在高纯氮气氛下退火的样品进行了I．v测试，发现其电流一电压 关系满足肖特基结的I-v关系，通过拟合得出其理想因子的大小，且随着退 火处理的温度升高，复合结构的理想因子逐渐减小。 Ni／Si-NPA 关键词： 硅纳米孑L柱阵列(Si-NPA) 浸渍沉积势垒高度 郑州大学硕士论文 Ni／Si-NPA的制备及其电学特性研究 Abstract silicon Usingregularlypatternednanoporouspillar by methodassubstrateinthis hydrothermaletching thesis，Ni／Si-NPAnanocomposite withdifferentsurface hasbeen immersion system morphologiess