fept垂直磁录介质的制备与表征.pdfVIP

摘要 有良好的应用前景。并利用振动样品磁强计、多参数物理测试系统、X射线衍射仪、透 射电子显微镜、卢瑟福背散射等分析手段，研究了样品Ag底层厚度、FePt单元层厚度、 Fe的含量对样品生长模式、结构与磁性能的影响。 实验结果表明，FePt合金不掺杂而Fe含量较少时，薄膜主要形成的是居罩温度较 与Pt的沉积时间比为27s：14s时，薄膜的水平方向矫顽力为7．2kOe，此时薄膜中的Fe 中银底层厚度的增大，薄膜的有序度在Ag底层厚度约为8nm时达到最大值，颗粒尺寸 11)值最大为3．8，垂 在Ag底层厚度为16nm时达到最小值。薄膜的取向较好，I(001)／I(1 直与水平方向矫顽力比值随着Ag底层厚度的增大而增大，薄膜的最大矫顽力为5．6 kOe。另外，随着薄膜中Fe含量的增大，薄膜的有序度明显增强，薄膜的择优情况也被 水平方向矫顽力受到抑制而垂直方向矫顽力得到提高。作者首次提出了在B4C基上使用 度较高，薄膜的最大矫顽力高达12．6kOe，拥有热辅助垂直磁记录介质应用的潜力。结果 表明随着单元层厚度的减小，薄膜的生长模式有随机生长转变为(001)择优生长模式，薄 膜的矫顽力也随之降低。沉积的单层Fe与Pt较薄时，薄膜的取向度明显提高，积分强 度比最高达54．7，而摇摆曲线半高宽最小为1．2070。 关键词：垂直磁记录磁控溅射FePt薄膜矫顽力 Abstract to Inthis methodof hasbeenused research，the magnetronsputteringsystem prepare filmfor buffer wereused thin FePt／B4C magnetic layer FePtAg perpendicularrecording．Ag the were fitsanovel toinducetheorientatedof growthfilm．B4Cand(001)FePtcompounded mediawitha influencesof buffer perpendicularrecording goodapplicationprospect：The Ag unit concentrationonthe and thickness，FePtthickness，Fe growthmode，structure layer were of studiedwiththeassistance magneticproperties VSM，PPMS，XRD，TEM，RBS． Theresultsindicatethatthemain ofthe is whiletheFeconcentrationis FePt3 phase alloy ofFe lowin FePtfilm．L10 Wasfo