钛酸钡基低室温阻率高居里点PTCR的研究.pdfVIP

钛酸钡基低室温阻率高居里点PTCR的研究.pdf

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钛酸钡基低室温阻率高居里点PTCR的研究.pdf

摘要 本实验采用传统工艺,以碳酸钡,钛酸锶,二氧化钛,碳酸钠,氧化铋等为 原料,制备了无铅高居里点低室温电阻率复合陶瓷。(1)通过在(Ba,Sr)Ti03 以上,Na2C03和Bi203的加入量很少,对性能却起到很大的改善,其中居里点 的提高是关键,随着Na2C03和Bi203加入量的改变,试样的居里点较之原配方 和Bi203二者的固溶理论来结合,并形成了钙钛矿结构,复合的结果是改变了原 系统的轴率c/a,由于(Nao5Bio 得二者在复合以后形成(Ba092.。SroosNao5,Bio5x)币03后,在从四方铁电相向立 方顺电相转变的过程困难,表现为居里点的提高,这和实验的目的是一致的。随 着Na2C03和Bi203的加入量的增加,居里点提高到了1750C-225oC,但是当 Na2C03和Bi203的含量超过一定量后对实验就没有了意义…系统绝缘化,所以 选取适当的加入量进行下一步实验。(2)加入金属Ni,金属Ni性能稳定,主要 是抗氧化性好,有利于与上述系统形成结合,降低系统的室温电阻率。 随着金 属的加入量的改变,室温电阻率下降很快,当超过10%(嘶)时烧成瓷料就表现 为导通,可见金属起到了很好导通的作用,增加了电子浓度和迁移率,使得电子 从金属直接进入晶格,增加了导电的几率,综合效果表现为降低了室温电阻率。 金属Ni较之其它的金属比如Ti金属更容易实现与基体的复合,尤其是在烧结后 期不容易被氧化,采取适当的措施比如还原气氛,改变升温制度都能很好的保护 金属Ni不被氧化或者尽量少的被氧化。金属Ni的加入较之前人的加入量最大值 和性能最佳时的加入量都少5%左右,这主要是因为系统中的(Nao 的影响,另外加入金属Ni后瓷料的居里点有所降低,这主要是烧结制度有了改 变,烧结中的传质过程相应的也有了改变。室温电阻率得到很大的降低,但付出 的代价是升阻比急剧下降,由原来的10降到150左右。(3)热处理阶段是选取 第一步和第二步的最佳加入量进行的,因为由前人的经验,热处理很明显的升高 室温电阻率,提高升阻比,热处理工艺很少受到加入物多少的控制,也就是具有 的加入量10%(、vt)。改变热处理温度和保温时间,实验发现,随着热处理温度 的提高室温电阻率升高,但改变较小,升阻比提高,但是对居里点影响很小,基 本维持在1750c左右,金属在热处理中不可避免地要被氧化,晶界也得到氧化, 氧大量扩散进入晶界,提高了瓷料的PTC性能。在热处理中为了避免金属的氧 化,采用的措施是分部升温,即在低温阶段慢升温,高温阶段快升温,并尽量减 少保温时间,实验发现只要控制好升温制度,可很好的保护金属提高PTC性能。 (4)实验中采取了一些措施来提高性能,其中效果比较好的除了用还原气氛烧 结外,AST’Ti02,Bi203的加入量都是稍稍过量,并作了精确的控制,制造了完全 和部分还原气氛。防止挥发,控制A位和B位的取代,提高半导化的性能,并 得到了很好的效果。实验中的呆测瓷片都经过了超声波的清洗。 关键词:(Nao.5Bio 5)Ti03,居里点,烧结制度,半导化,热处理 Abstract Lowroom resistanceand TcP1℃Rceramicsis with temperature higll prepared rawmaterialsof and traditionalsolid BaC03,S疋03,Na2C03,啊02Bi203 using with offlee.1ead andlowloom synthesis hi曲Tc processing.msamples c锄be contemof

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