NdFeB永磁能研究及其溅射模拟.pdfVIP

NdFeB永磁薄膜-陛能研究及其溅射模拟 中 文 摘要 NdFeB永磁薄膜由于具有潜在的优异性能和商业价值而备受青睐。对其进行研 究不仅有重要的理论价值，而且具有巨大的经济意义。但由于成分和工艺等方面的 原因，目前其实际磁性能与理论值还有较大差距。 本论文对NdFeB稀土永磁薄膜近几年来的研究进展作了详细介绍，主要包括制 备方法、膜层结构、矫顽力机制、添加元素、热处理工艺、磁性能及其模拟等方面。 本论文采用直流磁控、射频磁控溅射方法制备了NdFeB系列薄膜，研究了溅射 功率、溅射气压、退火热处理对薄膜微结构、表面形貌和磁性能的影响。利用X射 线衍射仪、能谱仪、振动样品磁强计等对薄膜进行了组织结构、成分和性能测试。 主要结论有：NdFeB层溅射功率为50W，溅射气压为0．6Pa条件下制备的NdFeB 薄膜性能较好。溅射气压为1．5Pa条件下，NdFeB层溅射功率为50W的样品经650 W、100 ℃真空热处理之后的矫顽力比70 W样品的矫顽力高，方形度也较好。NdFeB 层溅射功率为70W，溅射气压为1．5Pa条件下所制备的NdFeB结构薄膜经650℃退 火处理后呈现明显的垂直磁各向异性。磁控溅射制备的薄膜样品中Nd含量较高， Nd的相对含量随着溅射气压的升高而升高，随溅射功率的增大而增大。 射离子入射能量、角度进行分析，得到溅射产额与入射离子能量、入射角以及溅射 原子摩尔比之间的一些规律：溅射产额随着入射离子能量的增加而增加，在低能量 区域增加幅度很大，到了高能量区域增加幅度逐渐变小，并且随着入射离子能量的 进一步增加，溅射产额有所降低。溅射产额随着入射离子入射角的增大逐渐增大， 且在700～800之间出现极大值，当入射离子入射角进一步增大时，溅射产额急剧下降。 溅射出的原子摩尔比与靶材原子摩尔比存在较大偏差，溅射原子中B的含量明显低 于靶材中B的含量，最终导致薄膜成分与靶材成分不一致。 关键词： NdFeB薄膜；组织；磁性能：磁控溅射；模拟 and forNdFeBPermanent The Simulation PropertiesSputtering Film Magnetic’Thin GraduateName Luo Zheting Directed byMingangZhang ABSTRACT NdFeB thinfilms ofNd2Fel4B permanentmagnetic consisting with and0【一Fe field soft-magnetic hard—magneticphase anisotropic phase with haveattractedmuchattentionfor highmagnetization potentially excellent andcommercialinterests．Thatitis magneticproperties investigated not has theoretical also economical only i