ULSI多层铜互连线的碟形坑问题研究.pdfVIP

维普资讯 显微、测量、微细加工技术与设备 Microscope，Measurement，Microfabrication ＆ Equipment ULSI多层铜互连线的碟形坑问题研究 刘 博，刘玉岭，袁育杰 (河北工业大学 微 电子研究所，天津 300130) 摘要：介绍了ULSI多层铜互连线中的碟形坑问题，对其产生的原因及影响因素进行了分析。针 对影响因素中的工艺条件 ，分别进行 了不 同压力、温度 、流量的试验 ，得到 了上述各 因素对抛 光速率的影响。基于上述试验结果，确定了铜互连线化学机械抛光 (CMP)的工艺条件 ，并进 行 了不 同抛光液配比的试验 ，从而找 出一种合适的方法，使不同材料的抛光速率达到一致 ，有 效降低 了碟形坑 出现的几率。 关键词：铜互连线；碟形坑 ；化学机械抛光；抛光液 中图分类号 ：TN405．97；TN305．2 文献标识码 ：A 文章编号 ：1671—