偏心距在偏心抛光中对去除速率均匀性的影响.pdfVIP

· 机械制造与研究 · 李茂，等 ·偏心距在偏心抛光中对去除速率均匀性的影响 偏心距在偏心抛光 中对去除速率均匀性的影响 李茂，朱永伟 ，左敦稳，李军，王军 (南京航空航天大学 机电学院，江苏 南京210016) 摘 要：从相对运动的角度出发，首先分析了在固结磨料抛光中工具与工件的相对运动轨迹。 而后从纯机械去除的角度出发，利用有限元的思想，建立了工件去除速率的数学模型，并分析 了偏心距对工件去除速率均匀性的影响规律。结果表明：在偏心距一定时，如果工件外圈有一 部分和抛光垫内圈或者外圈相交，那么工件的去除速率沿半径方向的变化为：先增大后急剧减 小；如果全部工件完全与抛光垫接触，那么工件的去除速率沿半径方向的变化趋势为不断增 大，而且先增大较快，后趋于平缓。在偏心距变化时，当工件完全位于抛光垫上时，随着偏心距 的增大，工件上各个半径处的去除速率有明显增大的趋势。 关键词：材料去除速率；定偏心抛光；偏心距 + 中图分类号：TG580．692 文献标识码：A 文章编号：16