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电子帘加速器长阴极下垂对电子束分布影响的研究 摘要 电子帘加速器是一种低能电子加速器，广泛应用于薄膜辐照及涂层固化。在实际 工业应用中，辐照幅度较宽的材料时需要较长的阴极，这样阴极下垂挠度增大，电子束 发散使辐照质量降低。北京机械工业自动化研究所曾经研制了一台阴极长为500ram的电 子帘加速器，电子密度分布均匀度好于±10％，但是对更长阴极电子帘加速器的电子柬分 布均匀度并没有做进一步的研究。本文着重讨论阴极下垂对电子束流级向分布影响。 论文从电场的改变、栅极缝透镜效应焦距的改变以及电子发射密度改变等方面分 析了阴极下垂对电子纵向分布的影响。 对CST软件的算法、网格划分、电子源设定以及运行参数等进行了研究，以使能 够在现有设备的基础上得到最好的结果。 完整地模拟了一种情况下的电子纵向分布，并对其结果进行分析发现随阴极下垂 最终在钛窗上的电子数量并不随之单调减少。 力图通过改变栅极电压及聚焦极形状来改善电子纵向分布，因此模拟了不同栅极 电压及不同聚焦极形状的电子纵向分布并将结果比较。最终认为仅通过改变栅极电压来 改善提高穿过钛窗的电子总量及电子纵向分布的均匀度不可行并大致确定了聚焦极形状 改变的方向，为以后长阴极电子帘加速器的研究工作提供了帮助。 关键词：电子帘加速器、CST软件、栅极电压、聚焦极形状 of Cathodeon oftheinfluenceofthedeflection Long Study distributionofelectronbeamcurrent the inElectrocurtainAccelerator ABSTRACT whichis Eletrocurtainacceleratorisa electronaccelerator low-energy inradiation industrial broader widelyapplied curingtechnology．Inapplication materialSarecured．weneedaneletrocurtainacceleratorwitha cathode． longer ofcathodereducethe ofradiation increaseddeflection However，the quality electrocurtainwhichacathodewithacathode500ram curing．An acceleratorhas in wasmadein hasa ofbeamcurrent length RIAMB，itlongitudinal uniformity tudinal beam betterthan±10％．Butthe distributionof current—of longi electrocurtainacceleratorwitha catho