中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光的工艺.pdfVIP

维普资讯 第 36卷第 4期 中南 大学学报 (自然科 学版 ) V0I_36 NO．4 2005年 8月 J．CENT．SOUTH UNIV．(SCIENCEANDTECHNOLOGY) Aug． 2005 中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光的工艺 龚艳玲。肖 刚。吴任和 。申儒林 (中南大学 机 电工程学院，湖南 长沙，410083) 摘要 ：采用浮动块研磨抛光机 ，研 究中等粒度 纳米金 刚石抛 光液 用于硬盘 磁 头抛 光 时其颗 粒大 小及 其 悬浮液 的分 散稳定性与磁头表面质量的关系，以及抛光各工序 、运行参数与表面质量 的关系。磁头表面质量采用原子力显微 镜观测分析 。通过对抛光过程运行参数 的正交实验 ，对 中等粒度纳米金 刚石用于磁头抛光 的工艺过程进行优化 。 实验结果表 明：磁头表面粗糙度 随着金 刚石粒径的减小而减小，但二者并不呈线性关系；抛光液的分散稳定性 比抛 光液颗粒粒径更能影响表面划痕的深度 ；精研磨能有效去除表面划痕；而抛光能有效降低表面粗糙度 。但其对划痕 的消除不如精磨有效；各参数对表面粗糙度和划痕的影响程度不 同，但是优化后参数取值相 同。 关键词 ：纳米金刚石 ；悬浮液；磁 头；抛光 中图分类号 ：TG580．692 文献标识码 ：A 文章编号 ：1672—7207(2005)04—061O—O5 Techniqueresearch onmagneticheadpolished by slurrieswith medium s‘ized nanodiamondparticles GoNG Yan—ling，XIAO Gang，W U Ren—he，SHEN Ru—lin (SchoolofM echanicalandElectricalEngineering，CentralSouthUniversity，Changsha410083．China) Abstract：W ith thefloat—piecespolisher，theeffectofthestabilityofpolishing slurriesand the nanodiamondparticlesizeonthesurfacequalityofmagnetichead wasstudied．Therelationship betweenpolishingprocedureandthesurfacequalitywasanalyzed．Thesurfacequalityofmagnet— icheadwasobservedandanalyzedwithatomicforcemicroscope(AFM )．W iththeorthogonalex— perimentmethod，thepolishingparameterswereoptim ized．Theresultsshow thatthesmallerthe nanodiamond size，thesmallertheaveragesurfaceroughnessvalueR ．Thedepthofnick isaf— fectedmoreobviously by thestability oftheslurry than bytheparticlesizein theslurry The ． deep nickcanbeerasedbyfinelappinge