基于ELID磨削WC-Co硬质合金表面机械研抛研究.pdfVIP

基于ELID磨削WC-Co硬质合金表面机械研抛研究.pdf

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2010年 10月 第5期 金刚石与磨料磨具工程 0et.2010 第30卷 总第 179期 Diamond AbrasivesEngineering No.5 Vo1.30 Seria1.179 文章编号:1006—852X(2010)O5—0011—04 基于 ELID磨削 WC—Co硬质合金表面机械研抛研究 关佳亮 吴衍才 肖小华 王巧云 陆宏伟 (北京工业大学机 电学院,北京 100124) 摘要 本文采用ELID磨削和机械研磨抛光复合技术,对WC—Co硬质合金表面进行了超精密加工实验研 究。首先采用ELID磨削对WC—Co硬质合金表面进行预加工,获得表面粗糙度 尺18nm的精密加工表 面。在此基础上对其进行机械研磨抛光加工 ,研抛盘转速设定为 150~200r/min,研抛压力控制在 0.2~ 0.5N/cm 范围;机械研抛时,首先采用含W1金刚石磨粒的研抛液,对 ELID磨削后的表面进行加工 100 min左右,以达到快速去除的 目的。再用含 WO.5金刚石磨粒的研抛液,进行机械研抛约100min,最后获 得R4nm的超精密表面。同时,针对机械研磨抛光过程,本文深入研究了磨料种类、粒度、抛光液溶剂、 研抛压力、研抛加工时间等因素对加工表面粗糙度的影响。 关键词 WC.Co硬质合金;超精密加工;ELID磨削;机械研磨抛光 中图分类号 TG58 文献标识码 A DOI编码 10.3969/j.issn.1006—852X.2010.05.003 Themechanicalpolishingresearch onthesurfaceofW C—Co cementedcarbidebasedonelectrolyticinp·rocess(ELID)grinding GuanJiangliang WuYancai XiaoXiaohua WangQiaoyun LuHongwe (CollegeofMechanicalEngineeringandAppliedElectronicsTechnology, BeringUniversityofTechnology,Beijing100124,China) Abstract Inthispaper,acompositetechniqueofELID gfndingandmechanicalpolishingisusedforultra— precisionmachiningexperimentalresearch.First,ELID grindingisadoptedtopre—processthesurfaceofWC—Co cementedcarbide ,obtainingtheprecisionmachinedsurfaceR 18nm ,thenthemechanicalpolishingprocessis implemented.Whenconductingmechanicalpolishing,thespeedoftheturntableissetto150~200r/rain,and thepolishingpressureiscontrolledin0.2~0.5N/cm ,thepolishingliquid containingW 1diamondgritsis usedtoprocessthesurfaceofrabout100minutes,aimingtoachievearapidremova1.Thenusingthepolishing liquidcontainingW0.5diamondgritsforanother100minutes,anultra—precisionsurfaceR 4nm isobtainedby themechanicalpolishingmethod.Meanwhile,theinfluencefactorsofthesurfaceroughne

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