Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition （PECVD） at Atmospheric Pressure （AP） of Organosilicon Films for Adhesion Promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V.pdfVIP

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2016-02-27 发布于天津
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Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition （PECVD） at Atmospheric Pressure （AP） of Organosilicon Films for Adhesion Promotion on Ti15V3Cr3Sn3Al and Ti6Al4V.pdf

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JournalofMaterialsScienceandEngineeringA5(7-8)(2o15)274-284 doi：10．17265／2161．6213／20l5．7．8．004 PlasmaEnhancedChemicalVapourDeposition(PECVD) tmosphericPressure(AP)ofOrganos．IiconF-Imsfor esionPromotiononTilsVa3Cr3Sn3AllandTi6sAAI144VV JanaHaag ，TobiasMertens，M axKolb，LilianaKotte andStefanKaskel ． AirbusGroupInnovations，Dept．TX2，81663Munich，Germany 2．FraunhoferIWS,Winterbergstrasse28，01219Dresden，Germany Abstract：TherecentgenerationofaircraftismanlybuiltoutofCRFP (Carbonfiberreinforcedplastic)．Toensuregalvanic compatibilityTitanium alloysareusedatconnectingpointstometallicstructures．TheincreaseduseofTitanium alloysduetotheir goodmechanicalpropertieshashighlightedtheneedforstructuralbondingasjoiningmethodtocombineTitaniumwithCFRP． However，long—term stableadhesiononTitanium isstillanissue．Currentlymainlywet-chemicalprocessesareappliedtoimprove adhesion onTitanium alloys．Sincewet．chemicaltreatmentsoftencomprisetheuseofhazardouschemicalsdryenvironmentally rfiendlysurfacefunctionalizationprocessesarepushedmoreintofocus．PECVD (Plasmaenhancedchemicalvapourdeposition)at APrAtmosphericpressure)seemstobefavorableofrthedepositionofsilicondioxidefilmsasanadhesionpromoter1ayer．Inthe presentwork，thedepositionofsilicondioxideadhesionlayer(rfom HMDSO (Hexamethyldisiloxane)asprecursor)ontitanium alloysisdescribed ofralinearlyextendedandscalableDC arcplasmasourcefIARGE1．Thewedgetestisusedtoevaluatethe adhesionpropertiesofcoatedtitanium samplesincomparisontothestandradusedNaTESianodizingprocess．Theresultsshow that theatmosphericpressureplasmaprocessleadstogoodlong-term durabilityna dtohighbondingstrengthwhichiscomparabletothe usedstandradpre—treatments． Keywords：AtmosphericpressurePECVD(Plasmaenhancedchemicalvapourdeposition)，plasmasurfacetreatment，silicondioxide films，titanium alloys，adhesionlayers． 1．Introduction airlines)expectthatnewtechnologiesleadtolessfuel