超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展-山东大学课程中心3.0.pdfVIP

第 12 卷 第 1 期 化　学　进　展 V o l. 12 N o. 1 2000 年 2 月 PRO GR ESS IN CH EM ISTR Y Feb. , 1999 超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展 张树永 　郭永榔 ( 山东大学化学学院　济南 250100) 曹宝成　于新好 ( 山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心　济南 250100) 摘　要　本文综述了超大规模集成电路制造过程中硅片溶液清洗技术的研究历史及现 状, 并对技术的未来发展进行了展望。 关键词　集成电路　硅片　溶液清洗 Progress of Aqueous Solution Clean ing Technology for Silicon W afer in VL SI C ircuit Fabr ica tion Z hang S huy ong 　Guo Y ong lang (Co llege of Chem istry, Shandong U n iversity , J inan 250100, Ch ina) Cao B aoceng 　Y u X inhao ( N ational R esearch and P rom o tion Cen ter of E lectron ic D evice C lean ing T echno logy and In stitu tion of Op toelectron ic M aterials and D evices, Shandong U n iversity , J inan 250100, Ch ina) Abstract　T he p rogress of the aqueou s so lu tion clean ing techno logy fo r silicon w afer in very large scale in tegrated circu it fab rication is review ed. T he fu tu re of the aqueou s . so lu tion clean ing techno logy is discu ssed as w ell Key words 　 in tegrated circu its; silicon w afers; aqueou s so lu tion clean ing. 一、引　言 集成电路制造过程中的硅片清洗是指在氧化、光刻、外延、扩散和引线蒸发等工序前, 采 用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物, 以得到符合清洁度要求的硅片 表面的过程。 硅片清洗对半导体工业的重要性早在 50 年代初即已引起人们的高度重视, 这是由于硅 片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性和成品率。随着集成电路由大规模向超大规 　收稿: 1999 年 4 月, 收修改稿 1999 年 5 月 通讯联系人 © 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 1·04 · 化　学　进　展 第 12 卷 模 ( ) 和甚大规模( ) 发展, 电路的集成度日益提高、单元图形的尺寸日益微化, 污 VL S I