基片温度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响.pdfVIP

第 36卷第 3期 武 汉 工 程 大 学 学 报 Vo1．36 NO．3 2014年 3月 J． Wuhan Inst． Tech． M ar． 2014 文章编号 ：1674—2869(2014)03—0033—05 基片温度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响 熊礼威 ，崔晓慧 ，汪建华 ，龚国华 ，邹 伟 [1．武汉工程大学材料科学与工程学院，湖北 武汉 430074； 2．湖北省等离子体化学与新材料重点实验室(武汉工程大学)，湖北 武汉 430074] 摘 要：采用微波等离子体化学气相沉积法，以氢气稀释的乙硼烷为硼源进行了纳米金刚石 (NCD)薄膜的生 长过程掺硼 ，研究了基片温度对掺硼 NCD薄膜 晶粒尺寸、表面粗糙度 、表面电阻和硼原子浓度 的影响．利用 扫描 电子显微镜和原子力显微镜观察 NCD薄膜 的表面形貌 ，并通过 Imager软件对原子力显微镜数据进行分 析获得薄膜的表面粗糙度及平均 晶粒尺寸信息；采用 四探针测量掺硼 NCD薄膜 的表面方块 电阻，利用二次