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二元光学 前言 二元光学是衍射型光学元件新的制作技术。 衍射型光学元件是根据光衍射现像的原理，即从波动光学的观点出发，所设计的光学元件。 与此相反，现在使用最多的透镜和棱镜等光学元件是按折射定律把光作为光线来处理，即从所谓的几何光学的观点出发所设计的折射型光学元件。在现在的光学机械中，主要使用折射型光学元件而很少使用衍射光学元件。这是因为衍射型光学元件还存在着一些问题。 二元光学就是利用最新的光学技术来解决这些问题，并进一步实现衍射型光学元件的固有功能。 二元光学概念 随着20 世纪60 年代激光的出现，由于其具有单色、相干长度好等特点，许多重要的研究必须使用激光才能更充分地发挥仪器的优良特性，因此，在科学技术发展中以透镜棱镜为主、且光机电集成的趋势下的光学仪器，越来越显得重、 大、笨，因此研制小型、高效、阵列化的光学器件己刻不容缓。 二元光学是衍射光学的主要分支学科，是研究微米、亚微米级特征尺寸光学元件的设计、微细加工技术及利用该元件以实现光束的发射、聚焦、传输、成象、 分光、图象处理、光计算等一系列功能的理论和技术的学科，是光学与微电子、 微计算机相互融合、渗透而形成的前沿交叉学科。 二元光学的特点和功能 二元光学技术是利用计算全息方法与微细加工技术，在任意片基材料上制作出位相深度为多台阶微浮雕结构的衍射微光学元件。二元光学元件的形状是以往折射型光学元件所没有的特殊状，以二元透镜为例说明二元透镜的形状，按折射型透镜的形状去掉波长整数倍光程差的部分。这是因为即使这样也不改变其性能，再以几分之一波长的厚度将形状量化。这种阶梯式量化形状就是二元光学元件的特点。 二元光学器件有如下优点: 第一，有比较高的衍射效率。 经过理论计算，两台阶，衍射效率达41%；四台阶，可达 81%；而八台阶，高达95%。利用更多的掩膜，四块、六块或八块时，能得到更高的衍射效率。但这样做是很不值的，八台阶以后，衍射效率已趋于饱和。况且，每套刻一次，就失掉一次精度，不可能每次套刻那么准，所以一般做成八台阶器件。 第二个优点是其独特的色散性能。 对于一般的折射光学器件，由于光波不同，红光与蓝光聚焦的地方不同，即存在色散，而二元光学器件，控制相位台阶的位置与高度，使红光与蓝光聚焦在不同的地方，但红光、蓝光的相对位置正好同折射器件相反。若将折射器件与二元光学器件叠加在一起，红光、蓝光可聚焦在同一个点上，甚至白光也可完全聚焦在一个点，因此可利用二元光学器件去补偿折射器件的色散，形成折衍混台系统，因此，可利用这些特性，构造混合系统，可大大简化光学系统，减轻重量，减小体积。 第三，有更多的参数选择性。 在一般的光学系统设计中，为校正像差，需弯曲一些曲面；而校正色差，需用两种不同性质的玻璃，但校正参数的选择余地是 很小的。例如，想消除像差时，只能弯曲曲面，而现在就不同了，利用二元光学器 件，只需在平面或曲面上做一些台阶，而台阶的宽度 、 深度 、位置等都是可变的，所以选择性就大多了。 二元光学元件的设计问题是去构造一个新的分布函G(u),G(u)=|G(u)|. exp(i. f(u)) 它满足以下三个条件： (1) |G(u)|＝1，（纯相位型元件，振幅为常数）； (2) f(u)是L 等级量化的（二元光学元件）； (3) G(u)的夫琅和费衍射花样g(x)＝FT{G(u)｝的强度分布|g(x)|2 以高精 度地逼近已知的强度信号| f (x)|2 二元光学元件的设计步骤 (1) 编码过程 将原先振幅分布中所携带的信息，尽可能多的编码到相位分布中去。 (2) 量化处理 对连续分布的相位进行分级量化处理。 主要有：G-S 算法、Y-G 算法及SA（Simulation Annealing）算法。 普通光学零件的面形是用研磨、抛光方法加工而成的，而二元光学元件的面 形是用与超大规模集成电路制造技术相同的方法加工的。 由于制造技术仍是制约二元光学元件发展的关键问题，所以改进制造技术是 一个主要的研究领域。 微光学的发展，使光学元件的尺寸进入微米、亚微米级领域，使人的认识 进一步深入，使传统光学及其技术发生巨大变革，这对光学领域特别是信息领域 的发展将产生难以估量的作用。 三微技术