光学薄膜制造工艺课件.ppt

光学薄膜器件性能质量好坏由两个方面决定： 膜系结构的设计性能 第四章 光学薄膜制造工艺 4.1 光学薄膜器件的质量要求 1、薄膜器件光学性能(R、T、A) 4.1 光学薄膜器件的质量要求 4.2 影响膜层质量的工艺要素 真空镀膜基本工艺过程: 4.2.1 影响膜层质量的工艺要素及作用机理 工艺参数对薄膜性能的影响 4.3.1 目视法 ——利用镀膜过程中，膜层的T或R随膜层厚度增加出现极值，根据极值个数，获得以λ/4为单位的整数厚度的膜层。 ①当选定一个λ作为监控波长时，只要膜层的光学厚度是λ/4的整数倍，其透射和反射光信号就具有一个或多个可供明确判断的极值； 例如：λ0=500nm时, nd=125nm (1个极值), nd=250nm (2个极值), 2、极值法使用中存在的两大缺陷 ②对任意膜层厚度 n1d1,虽然理论上存在波长λ，当n1d1=m λ/4 时，T和R有极值 3. 极值法监控技巧 极值法监控精度不高的主要原因是极值点的判读精度不高所致，常用下列方法： 典型装置 4. 极值法的改进 双光路补偿法 微分法 利用微分电路，将变化率最小的极值点改为对应变化率大的微分信号的零点。 ① T或R的极值点判读改为：零点（定值）