彩色滤光片原理(BU)祥解.pptVIP

* * RGB制程介绍 颜料分散法是将颜料作为着色材料，将颜料分散在胶合树脂中形成着色树脂，所以称为颜料分散法。将染料进行分散则称为染料分散法。广义的颜料分散法包含印刷法与电镀法，不过一般最具代表性成膜方法是利用光学微影之着色感光材料法与蚀刻法两种。另外预先将彩色光阻涂布在基材上，再将彩色膜转印到基板上，之后再利用光学微影方式來形成电极图案的转印方式也是近來备受瞩目的新制程。 彩色濾光片製造方法的分類 色料 着色方法 成膜方法 制造名称 染料 染色 光学微影 单层法(染色法) 多层法 染料分散 光学微影 蚀刻法 彩色感光材料法 印刷 其他 喷墨(Ink Jet)法 颜料 颜料分散 光学微影 蚀刻法 彩色感光材料法 转印法 印刷 凹版印刷法 平版印刷法 网版印刷法 电镀 光学 微影 其他 电子照相法 激光燒成法 CF颜料分散法制程图示 着色感光材料法 着色感光材料法是将颜料分散在微粒透明感光性树脂中，形成着色感光材料，進行涂布→曝光→显影，將R、G、B重复进行三次形成电极图案的方法。原理是采用光学微影(lithography)方式，所以设备也以涂布设备、曝光设备、显影设备为主。色相特性、颜料选择、微细化程度与感光材料分散方法等都是由涂布膜厚所決定。与同為光学微影式染色法相比，染色制程中的防染处理制程较为简化，但在曝光制程方面，由于着色感光材料的颜料会吸光，所以必须选用高感度的感光性树脂及曝光源。 蚀刻(Etching)法 蚀刻法是利用蚀刻形成着色树脂层，着色树脂是将颜料分散在聚合树脂(Polyimide)中。先将着色树脂涂布在玻璃基板上，烘干固化后涂布光阻，进行曝光、显影。由于蚀刻法需增加光阻涂布与显影剥离等制製程，制程数较着色感光材料法多。 转印法 转印法是将颜料分散树脂溶液涂布在薄膜上并进行干燥。利用此种涂布方法将涂在薄膜上的著色材料利用转印设备转印到玻璃基板后进行曝光、显影來形成象素。反复进行转印、曝光、显影制程形成RGB彩色层与黑色矩阵。由与形成原理是採光学微影方式，设备基本上与着色感光材料法相同。而且R、G、B各象素有遮蔽UV光功能，一般的黑色矩阵是利用背面曝光法來進行。 What is ITO ? ITO = Indium Tin Oxide 90 wt. % In2O3-10 wt.% SnO2 ITO原理 1968年荷兰PHILIPS公司的技术人员在偶然的试验中发现在铟化物表面上噴洒氯化锡液体，得到 3 × 10-4Ω.㎝ 的低电阻系数的透明导电薄膜后，ITO 的研究就一直是各大公司的热点。 ITO，铟锡氧化物，这个名词原本应该叫做Tin-doped Indium Oxide，即掺杂锡之铟氧 化物。因专业习惯简称：Indium Tin Oxide（ITO），使之成为专业用语。 ITO Sputtering Process: 1、功能： 提供液晶上电场之透光金属膜 此膜必须具备表面平滑性及元件可靠度 与着色层之成型方法有关 并利用压克力树脂与环氧树脂作为保护膜 ITO Sputtering Process: 2、材料特性： 采用电浆溅镀法 ITO ： Indium Tin Oxide（铟锡氧化物） ITO膜厚度0.15μm，表面电阻20~30Ω/???? ITO Sputtering Process: 目前平面现示器几乎都是使用ITO膜，主要理由： 具有低电阻(氧化锡导电能力强 ) 高透光率(氧化铟透过率高) 蚀刻容易 适合大面积制作 溅镀示意图 电浆溅镀法 透明片视为CF基板 ZnO:Al膜作为ITO代替材料 ITO的原料In是稀有金属，近年需求量的激增，至2005年其市价已经超过1,000美元／kg。 ZnO系是廉价又资源丰富的材料，也没有毒性，根据实验显示阻抗值和ITO相同，被认为是代替ITO的有力候补材料。 ZnO的透明导电性很久前就广为所知，还进行了低抵抗化所需添加物的研究。添加了Al后的ZnO膜（ZAO膜）得到了190μΩcm的低阻抗结果，显示了作为材料的可能性。 考虑到成品的特性，目前无法采用减少In材料来达到降低成本，ZAO虽然阻抗率不及ITO，但穿透率却超过了ITO，同时也可以进行蚀刻，稍待时日就有可能代替ITO。 什么是Photo spacer？ 　 　spacer主要是提供上下两层玻璃的支撑,?它必须均匀的分布在玻璃基板上,?不然一但分布不均造成部分spacer聚集在一起,?反而会阻碍光线通过,?也无法维持上下两片玻璃的适当间隙(gap),?会成电场分布不均的现象,?进而影响液晶的灰阶表现.  Photo spacer的作用 较佳的cell gap均匀性 降低漏光,提高对比度 Spa