福建安特水处理工艺设计方案1.docVIP

项目编号：YT10－18 项目类型；芯片废水 项目名称：福建安特半导体有限公司废水处理工程 福建安特半导体有限公司 清洗废水处理工程设计方案 深圳市怡泰水处理有限公司 二○一0年五月 目 录 §1 概况 2 §2 设计水质、水量及排放要求 2 §2.1 设计水质和水量 2 §2.2 排放标准 2 §3 相关技术规范 2 §4 设计原则 3 §5 设计范围 3 §6 工艺设计方案 3 §6.1污水主要污染物及去除方法 3 §6.2工艺流程图 4 §6.3工艺流说明 4 §7 构筑物及设备清单 6 §8 经济指标评价 9 §8.1 占地面积 9 §8.2 运行费 9 §9 工期与质保 10 §9.1 工期 10 §9.2 质保期 11 福建安特半导体有限公司 清洗废水处理方案说明书 §1 概况 福建安特半导体有限公司在生产中用纯水清洗零件的废水必须收集处理达标后才能排放。是营运期废水排放必须达到国标 (GB8978-1996)第二时段一级排放标准。 §2 设计水质、水量及排放要求 §2.1 设计水质和水量 §2.1.1 设计水质 参考同类型废水水质，其原水水质指标如下： 单位：mg/l 项目 pH值 原水水质 6～7 64 150 50 §2.1.2 设计水量 废水主要来源于生产冲洗水，根据甲方提供的资料，该废水水量120T/H，故设计时处理能力按5T/H考虑。 §2.2 排放标准 污水排放执行《污水综合排放标准》（GB8978-1996）第二时段一级标准： 项目 pH值 排放标准 6～9 ≤50 70 100 注：以上指标均应按环评报告的环保局建设项目批复所列的标准及指标执行。 §3 相关技术规范 甲方提供设计资料，如水量和占地要求等 《污水综合排放标准》GB8978-1996 《室外排水设计规范》GBJ14-87 《建筑结构荷栽规范》GBJ9-87 《给排水工程结构设计规范》GBJ69-84　 《混凝土设计规范》GBJ16-89　 《建筑地基基础设计规范》GBJ7-89　 《建筑设计防火规范》GBJ16-87　 《低压配电装置及线路设计规范》GBJ54-83 其它的有关设计手册及规范 §4 设计原则 贯彻执行国家关于环境保护的方针、政策，遵守国家有关法规、规范、标准。 根据废水水质和处理要求，合理选择工艺路线，要求处理技术成熟、经济、合理，处理后出水水质能达标回用；运行稳定、可靠；在满足处理要求的前提下，减少占地面积，尽量节约投资。 设备选型要综合考虑性能、价格因素，设备要求高效节能、噪声低、运行可靠、维护管理简便。 废水处理站平面布置要求紧凑、合理，高程设计须满足工艺及总图要求。 §5 设计范围 本工程设计范围从污水站调节池到污水从污水站内清水池排水口全过程。 本工程设计包括污水处理工艺、总图、设备强电控制及照明、自动控制、土建、机械设备、仪表等； 本工程所需电源、自来水管，均需甲方按设计要求送至处理站内。 §6 工艺设计方案 §6.1污水主要污染物及去除方法 1）、悬浮物及二氧化硅 在混凝沉淀过程中，绝大部分悬浮物将随污泥一起沉降到池底，然后再将这些污泥过滤、脱水后委托处理。 2）、表面活性剂及色度 目前处理表面活性剂及色度比较理想的方法是吸附法，本方案采用活性碳过滤去除。 §6.2工艺流程图 §6.3工艺流说明 该类废水主要来自生产加工过程中使用超纯水对生产零件进行清洗的过程，其主要污染物为二氧化硅、悬浮物、色度等 针对废水中的污染特点我们采用混凝沉淀+过滤工艺。 首先将废水提升至反应池，在此投加碱调PH到8～9，然后废水自流到混凝反应池再投加混凝药剂和助凝剂，生成大的絮体后自流到沉淀池泥水分离，沉淀池上清液自流进过滤池，过滤出水即可达标排放。 §6.3.1 调节池 生产废水的水质、水量随排放过程而变化，许多生产工序是间歇性操作，水质水量变化是很大的；而任何废水处理装置都具有一极限负荷，要求处理水的水量和水质都比较稳定，故而设置均衡调节池，稳定处理进水的水量和水质。 设计参数 调节池采用半地下式钢砼结构，该池的设计参数为： 有效停留时间（HRT）：6h，有效容积30m3。 §6.3.2 PH调节池沉淀池斜管.6～.0米的缓冲层。沉淀池运行时，废水经进水管进入过渡区，布水墙的阻挡均匀向前推进，并沿沉降区断面缓慢竖直上升。污泥颗粒沉降速度大于水的上升速度而下沉到污泥区，澄清水则由周边的溢流堰流入集水槽排出。 因为该废水中污泥颗粒较小，沉淀缓慢，为提高沉淀效率，节省占地，所以采用斜管沉淀池。 设计参数 沉淀池，采用半地下式钢砼结构。 最大时处理量5m3/h，表面溢流率1m3/h·m2。 §6.3.4 过滤池 沉淀出水自流至过滤池，在去除表面活性剂和色度的同时，进一