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第29卷第2期 真空科学与技术学报 (J-IINESE OFVACUUMSCIENCEAND’IEa删OCY 119 2009年3,4月 JOURNAL 掺硼纳米非晶硅的太阳能电池窗口层应用研究 李拮张溪文。 韩高荣 (浙江大学硅材料国家重点实验室杭州310027) Growthand of ila-Si:I-I Characterization Boron—Doped FilmsUsedIllsWindowMaterialofSolarCells Layer Li C,aorong zhe,撕Xiwen’,ttan (DqⅫ咖咄矿jI|2曲诎‰and .^,bstraetThe were enhancedchemical Bilieon(m-Si:H)films boron-d叩ed,maao-amorphous dep06itedbyplasma of mieroslrueturesand ofthe f幽rieatethewindow solarcells.The vapordep∞ilion(PECVO)to layers opticalproperties filmswere and in- na-Si:tt I.IV·VI ch蹦lcteliz耐byX-raydi:陆舶(XRD),R曰叮硼speelromelre flueneeof the flowrati08of flowrateof film殍owtheonditiom,i,ldudinggas B2H6/SiH4,RFpower,the the山枷l唱gas, andthesubstrate themicrostructur嘲andofthefilmwasstudied.ThereBultsshowthatthe temperat眦,On properties volume of na-Si:H boroncontent affects sizeand fractionthe films.For 8蛔[1iii锄dythe伊ailI crystalline borma ofthena-Si:H.Asboron eonlents bOlOn陀- aopilll;favorsctystallizalion dopant inerea嗍,the catalyst硼如砌l唔of sdtsin na-Si:Hhas band and a衄aorphousphase.TheB·doped t3.1aIgeroptic

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