二微纳米薄膜的制备解析：.pptVIP

二维纳米材料薄膜的制备 王增垚、孙泽川、周义茗 薄膜材料基础 薄膜材料的概念 采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质（原材料)的基团以物理或化学方式附着于衬底材料表面，在衬底材料表面形成一层新的物质，这层新物质就是薄膜。 简而言之，薄膜是由离子、原子或分子的沉积过程形成的二维材料。 薄膜分类 物态 结晶态： 化学角度 组成 物性 薄膜应用 1 薄膜的形成机理 1 1 物理气相沉积-蒸发法 物质的热蒸发 利用物质高温下的蒸发现 象，可制备各种薄膜材料。 与溅射法相比，蒸发法显 著特点之一是在较高的真空 度条件下，不仅蒸发出来的 物质原子或分子具有较长的 平均自由程，可以直接沉积 到衬底表面上，且可确保所 制备的薄膜具有较高纯度。 真空蒸发装置 1 电子束蒸发装置 电阻加热的缺点：可能造成 污染；加热功率或加热温度有限，不适于高纯或难熔物质的蒸发。 电子束蒸发装置正好克服了电阻加热法的不足 其缺点是电子束的绝大部分能量要被坩埚的水冷系统带走。因而其热效率较低；另外，过高的加热功率也会对整个薄膜沉积系统形成较强的热辐射。 电弧放电蒸发装置 也具有避免电阻加热材料或坩埚材料的污染，加热温度较高的特点，特别适用于熔点高，同时具有一定导电性的难熔金属、石墨等的蒸发。同时，这一方法所用的设备比电子束加热装置简单，是一种较为廉价的蒸发装置。 缺点是放电过程中容易产生微米级电极颗粒的飞溅，影响被沉积薄膜的均勾性 激光蒸发装置 使用高功率激光束作为能源进行薄膜的蒸发沉积。显然，也具有加热温度高，可避免坩埚污染，蒸发速率高，蒸发过程容易控制等特点。多用波长位于紫外波段的脉冲激光器作为蒸发光源。 针对不同波长的激光束，需选用具有不同光谱透过特性的窗口和透镜材料，将激光束引入真空室，并聚焦至蒸发材料上。 也存在容易产生微小物质颗粒飞溅，影响薄膜均匀性问题 物理气相沉积-溅射法 基本原理 溅射沉积的特点 溅射沉积装置 直流溅射 射频溅射 磁控溅射 反应溅射 化学气相沉积-CVD 基本原理特点 在一定温度条件下，利用气态先驱反应物，通过化学反应或与金属表面发生作用，在基体表面形成金属或化合物等固态膜或镀层。 采用相应的化学反应及外界条件（温度、气体浓度、压力等），可制备各种薄膜。 CVD反应类型 1 2 3 溶胶凝胶法 1 将金属离子转化为络合物，使之成为可溶性产物，然后经过络合物溶胶-凝胶过程形成凝胶。起初是采用柠檬酸作为络合剂，但它只适合部分金属离子.现在采用单元羧酸和有机胺作为络合剂，可形成相当稳定而又均匀透明的凝胶。 水的加入量对溶胶制备及后续工艺过程都有重要影响，是Sol-Gel工艺的一项关键参数。对于一些水解活性的醇盐，如钛醇盐，往往还需控制加水速度，否则极易生成沉淀。 凝胶化过程 1 1 凝胶的干燥 1 干凝胶的热处理 1 溶胶凝胶法制备薄膜的优点 合成温度低 用该法可在玻璃的熔化、析晶或分相温度以下制备均匀玻璃，使一些含有难熔或高温易分解组分的特殊性能玻璃的制备成为可能，是开发新型玻璃的一种有效方法。因烧结温度大幅降低，用该法也可制备一些用传统方法难以制备的高温陶瓷材料。 高集成的材料制备技术 1 1 （4） Sol-Gel工艺性在制备复合材料，尤其是纳米复合材料方面有其独到的优势。 通过溶胶（如溶胶混合、溶胶改性等）和凝胶（如采用干燥凝胶浸渍高分子单体，然后进行室温聚合等）都可以制备纳米复合材料。而多孔陶瓷、多孔玻璃则为与高分子材料的复合提供了良好的基质。 可将玻璃、陶瓷、纤维、薄膜、超微粉体等众多独立的材料制备纳入一个统一的工艺系统中，从一种原料出发，可制备出不同的形式的产品，从而使该工艺具有很强的实用性、高度的灵活性和广泛的适用性，彰显产业化的技术风范。 （3）不需要苛刻的工艺条件和复杂的设备，可以在大面积或任意形状的基体上制得薄膜 （5）设备简单，工艺灵活，制品纯度高 薄膜的一个重要参数 厚度，决定薄膜性能、质量 通常，膜厚 数十um， 一般在1um 以下。 薄膜材料及相关薄膜器件兴起于20世纪60年代。是新理论、高技术高度结晶的产物。 主要的薄膜产品 光学薄膜、集成电路、太阳能电池、液晶显示膜、光盘、磁盘、刀具硬化膜、建筑镀膜制品、塑料金属化制品。 薄膜材料与器件结合，成为电子、信息、传感器、光学、太阳能等技术的核心基础。 薄膜的制备方法 薄膜材料在现代科学技术中应用十分广泛,制膜技术的发展也十分迅速。 制膜方法—分为物理和化学方法两大类； 具体方式上—分为干式、湿式和喷涂三种，而每种方式又可分成多种方法。 代表性的制备方法按物理、化学角度来分，有： 物理成膜 PV