光学薄膜性能监测技术资料.pptVIP

不同氧分压下SiO2薄膜中残余应力的变化曲线 不同氧分压对SiO2薄膜残余应力的影响 不同温度下沉积的SiO2薄膜中的残余应力与时效的关系曲线 时效对SiO2薄膜残余应力的影响 7.6.2 薄膜应力检测技术1－悬壁法 7.6.2 薄膜应力检测技术2－X射线衍射法 X射线衍射法 当晶体没有发生畸变时，晶面之间的面间距为d0，由于沿晶面方向的内应力σ引起晶面间距d0变为d 时，σ可由下式表示 式中，E，ν分别是薄膜的杨氏模量和泊松比，式中的d是用X射线的位置决定的 7.6.2 薄膜应力检测技术2－X射线衍射法 7.6.2 薄膜应力检测技术3－干涉法 7.6.3 薄膜化学成份测试 损伤测试的重要概念 靶面(target plane) 激光和样品作用区域沿样品表面的切线表面。 光斑有效面积(effective beam area) 激光能量与最大能量密度的比值或者激光功率与最大功率密度的比值。 光斑有效半径(effective beam radius) 激光有效面积的平方根除以pi。 脉冲有效宽度 脉冲总能量与脉冲最大功率的比值。 损伤测试的重要概念 能量密度(fluence) 其中E0是能量，ω0是1/e2直径。 高斯光束(Gaussian beam) 能量截面符合下式的被称为高斯光束 其中E0是能量，ω0是1/e2直径。 激光损伤阈值测试标准装置 其他要求（稳定性，监控等） 聚焦系统 光斑高斯直径1－1.25mm 透镜口径是光斑尺寸的6倍 透镜最小的f数为50 激光输出能量较小时可适当的缩小光斑，但不得小于0.4mm 其他测试方法 S-on-1 基本与1-on-1相同 维持恒定的能量密度 重视功能上的意义，即用功能性损伤阈值衡量 R-on-1 能量以斜坡方式递增 预处理效果 N-on-1 是R-on-1方法的简化 实验装置建立及参数测量 光斑尺寸的测量 相纸削波成像法 刀口扫描法 科学CCD成像法 参数测量 波长 入射角 p光偏振角 脉冲重复率 靶面光束半径 靶面有效光斑半径 脉冲宽度 有效脉冲宽度 每一能量密度下辐照的最小点数 损伤阈值的拟合与确定 阈值的确定是通过损伤几率的方法得出； 计算出每一个能量密度台阶辐照的10点中的损伤几率； 然后以能量密度为横坐标，损伤几率为纵坐标，作出能量密度与损伤几率图； 再对图中数据做线性拟合，拟合线与横坐标的交点处的能量密度即为0%损伤几率。 损伤阈值的拟合与损伤形貌 测试报告 测试单位信息（单位名称、测试时间、测试人）； 样品信息（样品种类、样品提供者、样品的储存清洗方法、样品使用条件、样品的生产日期）； 测试信息（测试设备包括聚焦系统情况，使用激光系统参数、样品上测试点的排布信息、损伤判别方法、样品的储存和清洁方法、测试环境）； 测试结果（造成20%～80%损伤几率范围的能量密度作用下的典型损伤型貌、能量密度与损伤几率拟合图，阈值结果）； 提高薄膜阈值的常用方法 减少材料和薄膜中有害杂质的含量提高破坏阈值 稳定氧化锆材料的结晶相提高破坏阈值 离子清洗提高破坏阈值 氧分压的改变提高破坏阈值 控制缺陷率提高破坏阈值 退火过程提高三倍频膜的破坏阈值 离子后处理提高破坏阈值 保护膜提高破坏阈值 激光预处理提高破坏阈值 沉积技术提高破坏阈值 强激光薄膜相关的基础研究 优质的强激光薄膜 建设一个完备的薄膜相关检测平台 工艺控制水平 预处理技术应用 工艺过程 控制与固化 专用镀膜 机的研制 阈值 问题 面形 问题 小光斑预 处理技术 其他预 处理技术 优质的强激光薄膜 预处理技术应用 专用镀膜 机的研制 阈值 问题 面形 问题 小光斑预 处理技术 其他预 处理技术 7.5 薄膜光学参数测试-n和d 设计光学薄膜器件时采用块状体材料的折射率； 制备工艺条件对其折射率影响比较大； 因此需要详细确定薄膜n在不同工艺条件下的值； 折射率表现出的性质： 常用方法 折射率随厚度的变化，即折射率的各向异性； 折射率的微弱吸收(很小的吸收系数k)； 消光系数的不均匀性与各向异性； 光度法：根据反射率或透射率来确定n； 椭圆偏振法：利用偏振光的偏振性能来确定； 布儒斯特角法：利用布儒斯特原理来测试； 7.5.1 光度法测量薄膜的折射率和厚度-n和d 原理 对于理想光学薄膜，光学厚度为λ/2的整数倍处，透射率和反射率等于光洁基板的值； 而在薄膜光学厚度为λ/4 时，反射率正好是极值； 如果薄膜折射率nfns，反射率将是极小值； 如果薄膜折射率nf＞ns，反射率将是极大值； T, R Glass/10H/Air 膜系对应的曲线 H=Al2O3 位相厚度为该波长的π/2的奇数倍时 位相厚度为该波长的π/2的偶数倍时 7.5.1 光