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4）电子束熔炼 电子束熔炉正在熔化钛合金 通过高能量电子束对金属加热，实现熔炼。 4.4.3离子束加工（flying ion beam） 4.4.3.1离子束加工原理及特点 离子束加工的原理与电子束加工基本类似，也是在真空条件下，将离子源产生的离子束经过加速后，撞击在工件表面上，引起材料变形、破坏和分离。由于离子带正电荷，其质量是电子的千万倍，因此离子束加工主要靠高速离子束的微观机械轰击动能，而不是像电子束加工主要靠热效应。 离子束加工原理 离子束加工特点 离子束轰击工件的材料时，其束流密度和能量可以精确控制，因此可以实现毫微米及纳米级(0．001μm)的加工，是当代毫微米加工技术的基础； 离子束加工在真空中进行，污染少，特别适宜加工易氧化的金属、合金、高纯度的半导体材料； 离子束加工的宏观压力小，因此加工应力小，热变形小，加上表面质量非常高； 离子束加工设备费用高、成本高、加工效率低，其应用范围受到一定限制。 4.4.3.2．离子束加工的应用 1)离子刻蚀 2)离子溅射沉积 3)离子镀膜 4) 离子化学气相沉积 5)离子注入 1)离子刻蚀。 它是用能量为0.5-5kev、直径为十分之几纳米的氩离子轰击工件，将工件表层的原子逐个剥离的。这种加工本质上届于一种原子尺度上的切削加工，所以也称为离子铣削。这就是近代发展起来的毫微米加工工艺。 离子铣原理图 离子刻蚀的应用 （1）离子束打孔 硅基体上加工的45nm的孔 MgO片上加工的 30nm 孔 原子力显微镜AFM尖的 SEM （2）离子束标记、雕刻 FIB雕刻的线宽20 nm 标志 MgO 试样上的雕刻的S3 标志 FIB 双电子束雕刻样件 灰度效应是由于与不同铣削深度获得的 Hi Mech 地区标志，最小刻线宽度小于20nm Si片上的掩模. 黑色是绝缘的SiO2（250nm）, 亮的是导电Si（1um） 2)离子溅射沉积(flying ion beam physical vapor deposition) 离子溅射沉积本质上是一种镀膜加工。它也是采用0.5—5keV氩离子轰击靶材，并将靶材上的原子击出，淀积在靶材附近的工件上，使工件表面镀上—层薄膜。 离子溅射沉积原理图 利用FIB-PVD将金沉积在玻璃表面，最图案宽度为70nm 利用离子镀Pt.制作的微型机电系统 Si片上沉积的60 nm的铂线 直径140nm高度1微米的 Pt 线柱, 3)离子镀膜 离子镀膜也称离子溅射辅助沉积，同样属于一种镀膜加工，它将0.5—5keV的氩离子分成两束，同时轰击靶材和工件表面，以增强膜材与工件基材之间的结合力。也可将靶材高温蒸发，同时进行离子镀。 离子镀膜原理图 4) 离子化学气相沉积(flying ion beam chamical vapor deposition) 应用FIB-CVD制作的生物微型注射器 应用FIB-CVD制作的生物微型过滤器 5)离子注入（ion injection） 离子注入时是采用5—500kev能量的离子束，直接轰击被工材料。在如此大的能量驱动下，离子能够钻入材料表层，从而达到改变材料化学成分的目的。可以根据不同的目的选用不同的注入离子，如磷、硼、碳、氮等，以实现材料的表面改性处理，从而改变工件表面层的机械物理性能 离子注入原理图 离子束加工综合实例 图中上部分是通过离子气象沉积获得的图形，下部分是通过离子铣获得的图形 人有了知识，就会具备各种分析能力， 明辨是非的能力。 所以我们要勤恳读书，广泛阅读， 古人说“书中自有黄金屋。 ”通过阅读科技书籍，我们能丰富知识， 培养逻辑思维能力； 通过阅读文学作品，我们能提高文学鉴赏水平， 培养文学情趣； 通过阅读报刊，我们能增长见识，扩大自己的知识面。 有许多书籍还能培养我们的道德情操， 给我们巨大的精神力量， 鼓舞我们前进。 * 青年骨干教师培训讲座——聚 能 加 工 专 题 聚能加工专题 4-4聚能加工 聚能加工也叫高能束加工，它是指利用被聚焦到加工部位上的高能量密度射束，对工件材料进行去除加工的特种加工方法的总称。 高能束加工通常指： 激光加工 电子束加工 离子束加工。 4.4.1 激光加工 4.4.1.1．激光加工原理及特点 激光加工是20世纪60年代发展起来的一种新兴技术，它是利用光能经过透镜聚焦后达到很高的能量密度，依靠光热效应来加工各种材料。已广泛用于打孔、切割、焊接、电子器件微调、表面处理以及信息存贮等许多领域。 图1 YAG（钇铝石榴石） 激光加工机工作原理 激光加工工具有如下特点： 它属于高能束加工，不存在工具磨损更换问题； 几乎可以加工任何金属与非金属材料； 属非接触加工，无明显机械力，能加工易变形的薄板和橡胶等弹性工件； 激光束能量