pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响.pdfVIP

第 期 华东师范大学学报（自然科学版） ２ Ｎｏ．２ 　 　 年 月 （ ） ２０１１ ３ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＥａｓｔＣｈｉｎａＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔ ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅ Ｍａｒ．２０１１ ｙ 文章编号： （ ） １０００５６４１２０１１０２００７００７ 狆犎和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响 朱延松， 田晓华， 辛 广 　 　 　 （鞍山师范学院 化学系，辽宁 鞍山 １１４００５） 　 摘要：合成了 种不同结构的席夫碱（ 苯基苯甲亚胺、具有— 基团的 苯基 羟基苯甲 ５ 犖 ＯＨ 犖 ２ 亚胺和 （ 羟基）苯基苯甲亚胺、具有— 基团的 苯基 硝基苯甲亚胺和 （ 硝基）苯 犖２ ＮＯ２ 犖 ４ 犖４ 基苯甲亚胺）利用循环伏安法对 种席夫碱水溶液在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行 ． ５ 了研究 同时考察了 对席夫碱— —基团的电化学氧化还原反应的影响 结果表明： ． ｐＨ ＣＨ＝＝＝Ｎ ． 这 种席夫碱的— 基团都可以在玻碳电极上被还原，且是一个电化学上不可逆的过 ５ ＣＨ＝＝＝Ｎ 程；席夫碱结构上具有不同的取代基团（—ＯＨ和—ＮＯ２）和同一取代基团在席夫碱不同的位置 上（与碳端相连苯环、与氮端相连苯环）对—ＣＨ＝＝＝Ｎ—基团的电化学还原都有较大的影响；而 ＋ 在不同 缓冲溶液中， 浓度对 种席夫碱的— —基团还原也有一定的影响；进而 ｐＨ Ｈ ５ ＣＨ＝＝＝Ｎ 推断出席夫碱在玻碳电极上的电化学还原机理是— —基团上先在 原子上先得到一 ＣＨ＝＝＝Ｎ Ｎ 个电子，后在 原子上得到一个电子，再得到两个 ＋ 的过程 Ｃ Ｈ ． 关键词：席夫碱； 玻碳电极； 循环伏安； 氧化还原 　 　 　 中图分类号： 文献标识码： ： ／ Ｏ６４６．５４ Ａ ＤＯＩ１０．３９６９ ．ｉｓｓｎ．１０００５６４１．２０１１．０２．０１０ 　　 　　 ｊ 犈犳犳犲犮狋狊狅犳犎犪狀犱狊狌犫狊狋犻狋狌犲狀狋狉狅狌 狅狀犲犾犲犮狋狉狅犮犺犲犿犻犮犪犾狉犲犱狅狓狅犳犛犮犺犻犳犳犫犪狊犲狊 狆