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ClCH2CO除去: 硫脲,肼,吡啶水溶液,H2NCH2CH2SH, H2NCH2CH2NH2, PhHNCH2CH2NH2, 2、苄氧羰基(Cbz或Z) 常用保护试剂:苄氧甲酰氯(CbzCl) 常用脱保护剂:催化氢解、锂氨还原 5.3.3 N-烷基氨基保护基 常用保护试剂:苄基溴 脱保护剂: 催化氢解剂Pd(OH)2, 钯黑 氨基的特性: 容易氧化、酰化和烃基化。 氨基常用的保护 氨基的保护: 常形成酰胺。可通过酸或碱性水解除去。 例 5.4 羰基常用的保护 形成二甲醇缩酮 形成乙二醇缩酮 形成丙二硫醇缩酮 形成硫缩酮 例1 设计顺-5-庚烯-2-酮的合成路线。 TM的骨架双键是顺式双键结构,因此,可以看成是由叁键催化加氢而得的。同时,又知炔负离子也是一个活泼的亲核试剂,所以也是一个活泼的“合成子”。经上分析,拆开如下: 例2 ★ 起酰基负离子作用的1,3-二噻烷负离子: 形成过程: 1,3-二噻环己烷化合物的C-2上的氢原子,由于受到相邻两个硫原子的电负性影响,具有中等的酸度,可用正-丁基锂这样强度的碱除去,使C-2上带有负电。 酰基负离子的等价物 反应生成的锂化合物在溶液中于低温下是稳定的,能起其它有机锂化合物的全部反应。反应完毕,l,3-二噻环己烷化合物可在高汞离子存在下用酸水解,变为羰基化合物。 例3 合成 例4 合成 例5 合成 形成羧酸酯的形式被保护, 常用甲酯、乙酯、叔丁酯或苄酯。 叔丁酯用酸除去,苄酯用氢解法除去。 还可用酰胺和酰肼来保护羧基 。 甲酯和乙酯可以用羧酸直接与甲醇或乙醇发生酯化反应制得,又可以被碱水解。 叔丁酯可由羧酸先变为酰氯,再与叔丁醇作用,或者通过羧酸与异丁烯直接作用而得。它不能氢解,在通常条件下也不被氨解及碱催化水解 。 苯甲酯可由羧酸与苯甲基卤在碱性条件下反应而得。它除了可在强酸性或碱性条件下水解,还可以被氢解 。 5.5 羧基常用的保护 练习:完成下列转化: 9 HO(CH2)5COOH HO(CH2)5CH(OH)CH3 1 习 题 2 3 4 5 OCH3 OCH3 * * 第五章 保 护 基 团 为使反应能顺利实现,一方面需要导向基,把反应活性中心突出出来;另一方面还必须把不必参加反应,而又有可能参加反应,甚至是优先反应的官能团,暂时的隐蔽起来,从而使必要的合成反应顺利地进行。这种暂时的隐蔽官能团的作法,称为官能团的保护。为了保护其他官能团而引入分子内的官能团,称为“保护基”(Protective groups)。 对保护基的具体要求: 一般说来,保护基应满足下列三点要求: 1.容易、高产率地引入所要保护的分子中; 2.与被保护基形成的结构能够经受住所要发生的反应条件, 而不起反应; 3. 在保持分子的其他部分结构不损坏的条件下易被除去。 5.1 羟基的保护 1、酯类保护基 2、硅醚保护基 3、烷基醚保护基 4、烷氧基烷基醚保护基 醚类保护基是主要的方法 5.1.1 酯类保护基 一般由醇和相应的酸酐、酰氯在吡啶或三乙胺的存在下反应得到。 常用酯类保护基: MeCO 、ClCH2CO、 PhCO、 tBuCO(Piv) tBuCO(Piv)可选择性保护伯醇羟基 酯类保护基的除去:碱性条件下水解能力 tBuCOPhCOMeCOCICH2CO tBuCO除去:KOH/MeOH, LiAlH4,DIBAL(二异丁基氢化铝)PhCO除去: NaOH MeCO除去: K2CO3, NH3, Et3N, iPr2NEt, 5.1.2 生成硅醚保护基 常用硅醚保护基:Me3Si (TMS), Et3Si (TES), tBuMe2Si (TBDMS或TBS), iPr3Si (TIPS), tBuPh2Si (TBDPS) 形成三甲基硅醚 形成叔丁基二甲基硅醚 硅醚保护基的除去: 酸水解稳定性: TMS(1)TES(64) TBDMS (20,000) TIPS (700,000) TBDPS (5,000,000) 碱水解稳定性: TMS(1)TES(10-100) TBDMS=TBDPS (20,000) TIPS (100,000) 一般用F-脱去(Si-F的键能大于Si-O的键能): HF、n-Bu4N+F- 5.1.3 生成烷基醚保护基 常用烷基醚类保护基: 甲基醚(Me)、苄基醚(Bn)、对甲氧苄基醚(PMB)、 3,4-二甲氧苄基醚(DMB或DMPB)、三苯甲基醚(Tr)、叔丁基醚(t-Bu)、烯丙基醚 (Allyl) 5.1.4 生成烷氧基烷基醚保护基 常用烷氧基烷基醚保护基: 甲氧基甲基醚
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