脉冲激光沉积PLD薄膜.pptVIP

脉冲激光沉积薄膜 组员： 苏浩（报告人） 李年 吕方景 刘岗 引言 脉冲激光沉积( PLD) 技术是20 世纪60 年代出现的一门新兴的薄膜制备技术。1965 年Smith 等进行了激光制膜的研究。 脉冲激光沉积技术是制备薄膜一种重要的方法,在有机薄膜、有机-无机杂化薄膜以及多层有机薄膜的制备方面有其独特的优势。近年来,国内外开展了一些有机薄膜脉冲激光沉积的研究工作,并对该技术进行了发展和改进. 近年来,人们将脉冲激光技术和有机薄膜的制备结合起来,开展了一系列有机薄膜和生物材料薄膜的脉冲激光沉积研究,并取得了不错的成果。 PLD 的特点和优势 可以蒸发金属、半导体、陶瓷、金属氧化物等高温难熔无机材料制膜。 可以制备有机薄膜以及复杂成分的无机薄膜。 能够保持聚合物与有机分子结构的完整性。 在较低温度下原位实现薄膜的生长。 能够制备高质量的纳米薄膜。 适用范围广、设备简单、易于操作。 PLD 的基本原理及物理过程 脉冲激光沉积技术就是将脉冲激光器产生的高功率脉冲激光束聚焦后作用于靶材表面,瞬间产生高温高压等离子体( T ≥104 K) ,等离子体定向局域绝热膨胀发射并在衬底上沉积而形成薄膜． PLD原理图 脉冲激光沉积示意图 脉冲激光沉积示意图 影响薄膜质量的因素 激光对薄膜质量的影响 环境压强和气氛种类的影响 衬底到靶的距离(D) 沉积温度、种类及表面光洁度