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- 2017-05-12 发布于湖北
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当VSD0,开始有电流。电流的方向从源到漏。沟道电流随VSG增加而增加。 当VSG<VTH时,截止; 当VSD<VSG-VTH时,PMOS工作在线性区; 当VSDVSG-VTH时,PMOS工作在深线性区; 当VSD≥VSG-VTH时,沟道被夹断,PMOS进入饱和区,电流相对恒定。 I 27 2、IV特性 μp为空穴的迁移率,是电子迁移率的1/2到1/4,因此 PMOS具有较低的“电流驱动能力”。 当PMOS工作在饱和区时,电流为: 28 (三)跨导 MOS管工作时,其漏极电流受过驱动电压控制,定义 跨导为电压转换电流的能力: 当MOS管工作在饱和区时,其跨导为 =1/Ron 深线性区等效电阻 当MOS管进入线性区时,跨导下降,故作为放大应用,通常使MOS管工作在饱和区 29 截止区: 深线性区: 线性区: 饱和区: un :载流子迁移率 Cox :单位面积栅氧电容 W/L:宽长比 VTH : 阈值电压 (四)IV特性总结 30 (五)对NMOS和PMOS工作状态的判别 当VGD不足以形成反型层时,沟道被夹断,饱和 VG-VDVTH,夹断发生,饱和; VD-VGVTH,夹断发生,饱和。 VG-VD=VTH VD-VG=VTH VG-VDVTH 进入线性区 VD-VGVTH 进入线性区 D D S S G G 31 (六)二级效
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