3章内压薄壁容器的应力总结.pptVIP

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  • 2017-05-11 发布于湖北
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第三章 内压薄壁容器的应力分析 3.1 回转壳体的应力分析 ——薄膜理论简介 3.1.1 薄壁容器及其应力特点 化工容器和化工设备的外壳,一般都属于薄壁回转壳体: S / Di <0.1 或 D0 / Di ≤1.2 在介质压力作用下壳体壁内存在环向应力和经(轴)向应力。 薄膜理论与有矩理论概念: 计算壳壁应力有如下理论: (1)无矩理论,即薄膜理论。 假定壳壁如同薄膜一样,只承受拉应力和压应力,完全不能承受弯矩和弯曲应力。壳壁内的应力即为薄膜应力。 (2)有矩理论。壳壁内存在除拉应力或压应力外,还存在弯曲应力。 在工程实际中,理想的薄壁壳体是不存在的,因为即使壳壁很薄,壳体中还会或多或少地存在一些弯曲应力,所以无矩理论有其近似性和局限性。由于弯曲应力一般很小,如略去不计,其误差仍在工程计算的允许范围内,而计算方法大大简化,所以工程计算中常采用无矩理论。 3.1.2 基本概念与基本假设 1. 基本概念 回转壳体 ——由直线或平面曲线绕其同平面内的固定轴旋转3600而成的壳体。 几个典型回转壳体 法线: 2.基本假设: (1)小位移假设。壳体受压变形,各点位移都小于壁厚。简化计算。 (2)直法线假设。沿厚度各点法向位移均相同,即厚度不变。 (3)不挤压假设。沿壁厚

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