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第三节 相图在晶体生长中的应用;3.1相图中与晶体生长有关的一些因素;晶体生长中可能碰上的固态相变,有脱溶、多形性转变、共析(包析)反应、有序无序转变、铁电性顺电性的转变、铁磁性顺磁性的转变、超导电态转变等等。 ;3. 相图形态;图9;图10;3.2 生长方法的选择 ; 有很多半导体构料如GaP等,相图上虽有同成分点,如图1.38所示,但在通常条件下加热还不到它们的熔点时就会分解挥发,因而如用通常的熔体生长则需在高压气氛下,使分解出的蒸汽回到熔体中去。 ;2. 溶液生长法 ;含有包晶反应的体系,一般可采取助熔剂法生长。图1.39所示出的是SrNb2O4-NaNbO3赝二元系相图。 ;某些晶体在熔点以下存在固态相变,用熔体生长法生长时得不到质量很好的低温相单晶。但可用助溶剂在相变温度以下生长,得到低温相的单晶。判断助溶剂的实用与否,应看低温相存在的温度范围是否足够宽。图1.40示出BaO—TiO2相图。 ;3.3 配料问题;有些化合物虽然有同成分点,且在相图上不存在固溶区,在理论上可以同成分配料,但实际生长时常发现,化合物某一组分在熔体中,由于挥发或其它化学反应有一定的损失,配料时也应该考虑其效应而适当偏离理想成分。图1.34示出的是MgO—SiO2的二元系相图。 ;2. 掺质配料 ; 3. 非理想成分配料 ;影响晶体完整性的因素很多。与相图有关的,大致有以下几种情况:
晶体冷却时越过溶线引起脱溶;
在固液二相区生长晶体或是配料偏离同成分点时,温度波动导致固相成分波动引起生长条纹;晶体成分偏离理想配比引起点缺陷;
由于组分过冷引起晶体的网络结构。
前三种情况,采用适当的原料配比,都能得到解决或部分解决,这在前面已有说明。
这里仅对组分过冷问题作一讨论。;1. 组分过冷问题
组分过冷是凝固过程中出现的一种与溶质重新分布有关的现象。一个ko1的具有有限固溶度的溶体,凝固时,由于固相不能接受那么多溶质,液体的溶质浓度会不断加大。除非液体对流和扩散十分有效,否则液体的溶质分布会出现一个浓度梯度,如图17(a)所示。接近固液分界面的液体中溶质浓度增大,必然导致平衡液相线温度的下降。
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;由于推导中假设的边界条件(k。为常数、固态没扩散、液态无对流等),在难熔氧化物体系是不易满足的,从上式只能定性看出避免组分过冷的条件。
它们是,温度梯度大些,生长速度小些,溶质浓度小些。在掺Nd3+的YAG晶体生长中,采用降低生长速度、选择适当温度分布等办法,限制组分过冷现象发生,取得了一些效果。 ;2. 生长速度;1.分布系数ko越接近于1,生长速度可以越快。 ;生长速率控制应注意以下几点: ; 3.5 热处理工艺;为了避免脱溶,淬火有时是可取的。注意看LiNbO3相图的同志,一定发现同成分点配料生长的晶体,冷却下来要越过溶线,这将引起脱溶。那么,使用需要同成分点配比的晶体怎么办呢?淬火处理就能达到目的。淬火能使晶体很快越过溶线,使脱溶来不及发生,这样就在室温以介稳态的形式保持了过饱和的LiNbO3晶体。
一个晶体,需要退火还是淬火,热处理的程序应当如何,都须参考相图研究酌定。 ;3.6 应用实例;BBO晶体生长与相图;成分配料;比较发现可知:计算所得BaB2O4-Na2O 变温截面上BaB2O4 附近液相线与实验数据相吻合。
可以看出,随着Na2O 的加入,每硼原子所含桥氧数会迅速的减少,熔体粘度则会逐渐降低,从而有利于BBO 晶体的生长,这与实验工作是相符的。
这样,在该截面上,结合左图和右图,我??就可以在晶体生长时灵活地选择生长点。;助熔剂的选择;BBO生长过程中采用Na2O或Na2B2O4作助熔剂的原因;相图分析;
根据相图的结果,选择了摩尔比CaB4O7∶CaLa2B10O19为1∶1 ,1.5∶1和2∶1 三种不同浓度的高温溶液体系来生长CaLa2B10O19,结果都可以长出LCB晶体
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; 通过对LaB3O6-CaB4O7赝二元体系相图的研究,发现在这个体系中CaLa2B10O19相存在的范围较大,选择了三种不同助溶剂浓度的体系,都可以得到CaLa2B10O19晶体。说明以CaB4O7为助溶剂生长CaLa2B10O19晶体是合适的,但是,对于某种晶体来说助溶剂的选择往往不是唯一的,除了考虑助溶剂对晶体的溶解能力,溶解温度的影响之外,助溶剂对高温溶液的粘度、挥发性等方面的影响也应该加以考虑,要获得大尺寸高质量的LCB 晶体,选择合适的助溶剂仍然是需要解决的基本问题。
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