化学中的气相合成技术课题.pptVIP

化学气相合成技术;气相中的化学反应;化学气相输运合成原理;;特点;输运反应概念;输运反应步骤;输运反应的特点;输运反应示例;化学蒸汽沉积(CVD)合成概述;化学气相沉积(CVD);典型的CVD装置;;;;利用CVD法合成的碳纳米管;CVD制作器件;CVD-薄膜的制备方法;CVD方法的常规应用;实例;CVD方法的步骤;CVD过程的步骤示意图;;补充说明;CVD体系的基本要求;CVD方法的前驱体;理想的前驱体;实际的前驱体;前驱体的挥发性;前驱体的挥发性—防止寡聚物生成;前趋体的化学反应类型;热分解反应（Pyrolysis）;还原反应（Reduction）;氧化反应(Oxidation);复分解沉积(Metathesis);歧化反应(Disproportionation);积碳;多源前驱体和单源前驱体;;多源前驱体和单源前驱体的比较;CVD仪器设备;CVD方法的仪器设备示意图;CVD系统的加热装置;电阻加热;等离子体加热;激光束加热;激光加热; 电子束加热;前驱体的投送方法;反应器的类???;;冷壁反应器;冷壁反应器示意图;影响因素;可影响的产物涂层性质;CVD法中的沉积速率;基本限制;基底温度的影响;投料速率的影响;压力的影响;双分子体系的机理;Elay-Rideal机理;Langmuir-Hinshelwood机理;CVD法中的选择性沉积;沉积的策略;与CVD相关的方法;CVD合成示例;金属的CVD;金属材料涂层的应用;铝膜;;Al(i-Bu)3 热分解过程的示意图;AlR3 在氧化硅基底上热分解;Me3N-AlH3 在Al表面上热分解的机理;钨膜;铜膜;金刚石的CVD;金刚石的性质和应用;多晶金刚石薄膜的CVD制备途径;甲烷/氢气制备金刚石薄膜的形成机理;金属氧化物的CVD;;钇钡铜氧超导膜;金属氮化物的CVD;氮源;TiN;化合物半导体的CVD;化合物半导体;能带间隙;前驱体纯度;实例：GaAs膜;;;