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真空溅射镀膜技术
真空溅射镀膜技术 ; 表面技术工程是将材料表面与基体一起作
为一个系统进行设计，利用表面改性技术，薄
膜技术和涂层技术，使材料表面获得材料本身
没有而又希望具有的性能的系统工程。
薄膜技术是表面工程三大技术之一。一般
把小于25um大于100nm的膜层称为薄膜，大于
25um的膜层称为厚膜。小于100nm的膜层称为
纳米薄膜。
真空镀膜是薄膜技术的最具潜力的手段，
也是纳米技术的主要支撑技术。所谓纳米技术，
如果离开了真空镀膜，它将会失去半壁江山。;真空镀膜分为(蒸发镀膜 ) 、(离子镀膜 )、(溅射镀膜 )和(化学气相沉积 )四种形式,按功能要求可分为(装饰性镀膜)和(功能性镀膜)。
溅射是指荷能粒子轰击(固体表面），使(固体原子或分子）从表面 射出的现象。利用溅射现象沉积薄膜的技术叫(溅射镀膜)。
;;真空表面沉积技术起始于真??蒸发镀膜，其基本过程是：
? 在真空容器中将蒸镀材料(金属或非金属)加热，当达到适当温度后，便有大量的原子和分子离开蒸镀材料的表面进入气相。
? 因为容器内气压足够低，这些原子或分子几乎不经碰撞地在空间内飞散，
? 当到达表面温度相对低的被镀工件表面时，便凝结而形成薄膜。;;蒸发成膜过程是由蒸发、蒸发材料粒子的迁移和沉积三个过程所组成。;溅射镀膜的原理及特点;直流二极型离子镀膜;三种物理气相沉积技术与电镀的比较
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