传感器原理与应用(下)详解.ppt

传感器原理与应用;光纤传感的调制特性; ;非干涉型光纤传感系统 强度调制传感 偏振调制传感 频率调制传感;强度调制传感;1.微弯效应 微弯损耗强度调制器的原理如图。当垂直于光纤轴线的应力使光纤发生弯曲时，传输光有一部分会泄漏到包层中去。 ;2.光强度的外调制 外调制技术的调制环节通常在光纤外部，因而光纤本身只起传光作用。这里光纤分为两部分：发送光纤和接收光纤。两种常用的调制器是反射器和遮光屏。;强度调制传感;范例：分布式传感;受激散射;Rayleigh 散射（它是半径比光或其他電磁輻射的波长小很多的微小颗粒对入射光束的散射） 脉冲信号在光纤中传送，由于光纤本身的散射特性，很弱的后向散射信号会返回OTDR，OTDR收到散射信号后会根据散射信号的强弱计算出光纤的衰减特性。这是OTDR测量衰减的原理。 OTDR利用瑞利散射进行光纤衰减测试 (dB/Km);Fresnel 背向反射;OTDR曲线示例：;;BOTDR：用于应变传感的分布式测量;BOTDR的应用：;ROTDR：分布式温度检测;ROTDR的应用：;偏振调制传感;线偏振光;偏振光分类： 线偏振光 圆偏振光 椭圆偏振光 部分偏振光 利用光波的这种偏振性质可以制成光纤的偏振调制传感器。 ;自然光;光纤偏振传感主要有三部分： 起偏器：将非偏振光变成偏振光 偏振调制器：常利用电光、磁光、光弹等物 理效应改变偏振状态（传感部分） 检偏器：检测偏振态的改变;从自然光（非偏振光）产生偏振光的途径 1. 反射和折射 2. 二向色性（偏振片） 3. 晶体的双折射;1. 反射和折射起偏; 反射光的偏振化程度和入射角有关，当入射角等于某一特定值i0且满足;反射光强度较小，通常不被利用；透射光的光强较大，但又不是完全线偏振光，实际采用玻璃堆的方法可以解决该问题。;2. 偏振片起偏（常用） 二向色性 : 某些物质能吸收某一方向的光振动 , 而只让与这个方向垂直的光振动通过, 这种性质称二向色性。 （在微观领域，分子的光吸收率不是一个标量，而是具有一定的方向性。宏观上吸收的二向色性表现为吸收系数具有方向性。） 偏振片 ：涂有二向色性材料的透明薄???。 （它是利用聚乙烯醇塑胶膜制成，它具有梳状长链形结构分子，这些分子平行排列在同一方向上，此时胶膜只允许垂直于排列方向的光振动通过，因而产生线偏振光） ;;;3. 晶体双折射起偏;;A;;;;;;;平行光垂直入射，光轴在入射面内，光轴平行晶体表面 ;光程差;;经晶片： o光和e光的位相差为;o光和e光都沿检偏器的偏振化方向振动，但振幅矢量方向相反(附加相位差?);光纤传感器中的偏振调制器常利用电光、磁光、光弹等物理效应。 克尔效应（电光）：电场强度 光弹效应（弹光）：应力变化 法拉利效应（磁光）：磁场强度;克尔效应：;光弹效应;磁光效应（法拉利效应）：;能产生旋光现象的物质：如石英晶体、糖溶液等;在磁场作用下产生的偏振方向变化现象;频率调制光纤（学）传感;范例：光纤光栅传感;;在一根单模光纤上放置多个FBG，可实现分布式光纤传感效应;光纤光栅的制作;2） 全息干涉法 全息干涉法又称外侧写入法，如图2示，用准分子激光干涉的方法，Meltz等人首次制作了横向侧面曝光的光纤光栅。用两束相干紫外光束在掺锗光纤的侧面相互干涉，利用光纤材料的光敏性形成光纤光栅。可见，通过改变入射光波长或两相干光束之间的夹角，可以改变光栅常数，获得所需的光纤光栅。这种光栅制造方法采用多脉冲重复曝光技术，光栅性质可以精确控制，但是容易受机械震动和温度漂移的影响，并且不易制作具有复杂截面的光纤光栅。;3） 相位掩模法 相位掩模板（Phase Mask）是衍射光学元件，用以将入射光束一分为二+1级和-1级衍射光束，它们的光功率电平相等，两束激光相干涉并形成明暗相间条纹，在相应的光强作用下纤芯折射率受到调制。相位掩模板是一个在石英衬底上刻制的相位光栅，它可以用全息曝光或电子束蚀刻结合反应离子束蚀刻技术制作。它具有抑制零级，增强一级衍射的功能。因此，对光源的相干性要求不高，简化了光纤光栅的制造系统，其主要缺点是不同Bragg波长要求不同的相位掩模板，并且，相位掩模板的价钱较贵。该方法大大简化了光纤光栅的制作过程，是目前写入光栅常用的一种方法。;光纤光栅信号解调 1、利用光谱仪进行反射波长的扫描； 2、通过匹配光栅法检测光纤光栅反射波长； 3、利用“可调谐法布里-珀罗腔”方法扫描检测 光纤光栅的反射波长； 4、利用衍射光栅和线阵CCD来同时探测多个光纤光栅反射波长的移动;利用光谱仪进行反射波长的扫描;;可调谐法-珀腔法检测光纤光栅反射波长;衍射光栅和CCD检测光纤光