第五章 物理气相沉积;5.1 PVD概述;5.1 PVD概述;5.1 PVD概述;5.1 PVD概述;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀;5.2 真空蒸镀--蒸发源;5.2 真空蒸镀--蒸发源;5.2 真空蒸镀--蒸发源;5.2 真空蒸镀--蒸发源;5.3 溅射;5.3 溅射;5.3 溅射; 5.3 溅射
(1)无光放电区-ab段,导电而不发光。
电离产生的离子和电子在外电场作用下定向运动,运动速度随电压 增加而加快。直至达到饱和值,即电流从0逐渐增加至达到某一极大值,电压再增加,电流并不增加。因为电离量很少且恒定,电压再增加,到达电极的电子和离子数目不变。
(2)汤生放电区-bc段,离子和电子数目雪崩式的增加,放电电流迅速增大。电压是常数(受到电源高输出阻抗和限流电阻的限制)
(3)辉光放电-气体突然发生放电击穿现象,电流显著增加,放电电压显著减少。
c点-放电??着火点。处于阴极的边缘和不规则处。
cd段-前期的辉光放电。电流增加,电压减小(负阻现象)。因为气体已经被击穿,气体内阻随电离度的增加显著减小。
;5.3 溅射;5.3 溅射;5.3 溅射;5.3 溅射;5.3 溅射;5.3 溅射;5.3 溅射-溅射方法;5.3 溅射;5.3 溅射;;5.3 溅射;5.3 溅射
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