碟片激光器系统的膜层.doc

PAGE \* MERGEFORMAT12 碟片激光器系统的膜层 St. Günster*a, D. Ristaua, B. Weicheltb, A. Vossb aLaser Zentrum Hannover e.V. (LZH) , Hollerithallee 8, 30419 Hannover, Germany bInstitut für Strahlwerkzeuge (IFSW), Pfaffenwaldring 43, 70569 Stuttgart, Germany 摘要：碟片激光器的发展与激光二极管的技术是密不可分的。这种激光器碟片的厚度范围大致在，这主要取决于材料吸收系数和泵浦次数。对于TDL的高效运行，沉积在碟片前后表面的高性能光学薄膜必不可少的，其中的一类是后表面上的高精细度HR膜层，它决定着激光器和泵浦的性能；另一类则是前表面上的低损耗抗反射膜层，它能够使激光辐射（近）垂直入射传输，同时使泵浦斜入射传输。该TDL的膜层系统，尤其是HR膜层，除了要满足光学特性，还必须遵循特定的机械和热力学要求。 Hannover激光中心已经研发出一种簇沉积工具用于TDL系统的膜层沉积。这种簇沉积工具包括三个部分，???1个腔是基板负载锁定系统，它用于基板的检查及腔内的预处理和后处理，第2个腔用于对采用离子束溅射（IBS）的低损耗电介质膜层的沉积，第3个腔用于对可以作为反射层或者焊接的金属层进行沉积。其中，电介质沉积腔配备有射频离子源，用于单一材料或材料混合物的沉积。这样的话，它可以将离散的高低叠阵膜层或者是Rugate滤光器膜层沉积。整个过程由一个光学宽带监控器（BBM）控制，而且，还设有基于基板弯曲的腔内实时应力测量系统，它可以对材料的机械应力进行评估。 关键词：膜层沉积，碟片激光器，Rugate滤光器，膜层应力，金属 1.引言 高功率碟片激光器已经用于材料加工和许多其他方面的应用[1-5]。这种系统所采用的泵浦源是激光二极管，泵浦光波长在近红外光谱范围内。碟片激光器（TDL）的理念中采用的是厚度为的激光激活碟片，这个理念不仅可以延用到更高的激光器输出功率，而且同时还可以提供非常好的输出光束质量。对于连续波（CW）应用系统和脉冲系统，在目前使用或者研究的激光激活材料中，最突出的是Yb:YAG，它在光泵浦下的基本波长是。TDL的关键组成部分是碟片模块元件，它包含镀在激光激活材料一侧的低损耗抗反射（AR）膜层，和另一侧的高反射（HR）膜层，两者都作用于出射波长和泵浦波长。在激光器运行时，激光束垂直入射到碟片的端面上，泵浦光则通常是在多路径约束下斜入射到激光材料（图1）。一个典型的TDL中，碟片模块被集成到谐振腔内部，同时，它后表面的高反射率系统构成一个端镜。再考虑到散热的问题，HR系统本身就必须要和散热器接触，因此，不管是通过焊接还是胶粘，都必须对散热器的接触进行热优化处理。 图1：包含激光激活材料，膜层和光束路径的DISKMODUL元件的示意图 DISKMODUL元件的生产是相当困难的。首先要选择无缺陷和高效率的激光材料，其抛光表面必须有电介质系统和/或电介质-金属系统膜层。其次，整个生产周期必须是稳定的，可重复和可靠的。然后，这些膜层除了必须具备非常好的光学特性，还要能承受较高的热负载和激光的最高功率。最后，由于基板比较薄，还必须考虑到膜层应力之类的机械影响，而且所采用的解决方案最好是面向应用的。 通常，生产过程中采用的是标准镀膜方法，譬如IAD（离子辅助镀膜），APS（高级等离子体源），或者IBS（离子束溅射）来沉积电介质膜层。电介质膜层沉积之后，在HR膜层系统，通常会改变靶材来沉积金属镜膜层或者是用于焊接的金属膜层。由于这道工序决定着整个激光器系统的质量，所以杂质的混入势必会产生十分严重影响。就TDL组建的要求而言，以上没有一种沉积系统满足要求。令人欣慰的是，不久前Hannover激光中心已经发明了一种新型沉积工具，它可以保证整个镀膜工艺在一个稳定的环境中进行，并计划在Innonet项目DISKMODUL[6]的框架中实现这个方案。 2.DISKMODUL簇沉积工具 DISKMODUL元件对于产品优化—LZH，其理念主要将生产任务分为三个部分：1. 通过一个负载锁定系统将激光碟片基板引入真空系统，还能够对激光碟片基板的腔内检测，腔内预处理和后处理。2.该系统应该为紫外，可见光和近红外光谱范围内的应用提供高密度，低损耗电介质膜层的沉积。镀膜过程应当允许离散的标准叠阵膜层系统，混合材料叠阵膜层以及像Rugate滤光器的渐变折射率膜层的沉积。3.最后，为了达到反射和焊接的目的而不对其它任务造成不良影响，沉积工具应当提供一种腔内的金属镀膜。簇沉积工具是一个三腔的装置（图2）。1腔，负载锁定腔，为腔内缺陷检