4.3 金属-氧化物-半导体绝缘栅型场效应管
(Metal-Oxide-Semiconductor type FET)
;4.3.1 N沟道增强型MOSFET;结构与符号;2. 工作原理 ;(1) vGS =0 , vDS≠0;P;P;P;P;P;a. vDS升高;b. 当vGD =vGS–vDS=VT时;c. 当vDS进一步增大;3.特性曲线 ;管子工作于恒流区时函数表达式;4.参数;4.3.2 N沟道耗尽型MOS管 ;绝缘层中渗入了正离子;导电沟道增宽;4.3.3 各种FET的特性比较及使用注意事项
见表4.3.1;MOSFET符号;场效应管的特点(与双极型晶体管比较);双极型晶体管的发射结始终处于正向偏置,有一定
的输入电流,基极与发射极间的输入电阻较小。;(5) 场效应管的结构对称,有时(除了源极和衬底在
制造时已连在一起的MOS管)漏极和源极可以
互换使用,且各项指标基本不受影响,使用方便、
灵活。;场效应管的跨导小,当组成放大电路时,在相
同的负载电阻下,电压放大倍数比双极性晶体管
低。
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