第五章电子衍射衬度成像技术分析.ppt

第五章 电子衍射衬度成像 5.1电子像衬度的分类及其成像方法 5.1.1质厚衬度成像原理 5.1.2衍射衬度成像的原理 5.1.3相位衬度成像原理 5.2衍衬运动学理论 5.2.1基本假设和近似处理 5.2.2完整晶体衍衬的运动学方程 5.2.3完整晶体运动学衍衬理论的实验验证 5.2.4.缺陷晶体衍衬的运动学理论及其应用 5.3衍衬动力学理论 波动光学方程 5.3.1 电子的散射及其交互作用 5.3.2完整晶体衍衬动力学方程 第五章 电子衍射衬度成像 5.3.3 完整晶体的动力学方程的解 5.3.4 厚度消光和弯曲消光 5.3.5 反常吸收效应 5.3.6 缺陷晶体衍衬动力学方程及其应用 5.3.7缺陷晶体衍衬像的计算机模拟及其应用 第五章 电子衍射衬度成像 5.1 电子像衬度的分类及其成像方法 电子像衬度可分为三类，即质量厚度衬度（简称质厚衬度）或称散射吸收衬度、电子衍射衬度 简称衍衬 和相位衬度。 5.1.1 质厚衬度成像原理 一、单个原子对入射电子的散射 当入射电子穿透非晶体薄膜样品时，将与样品发生相互作用，即与原子核相互作用，或与核外电子相互作用，由于电子的质量比原子核小得多，所以原子核对入射电子的散射作用，一般只引起电子改变运动方向，而无能量变化（或变化甚微）,这种散射叫做弹性散射。散射电子运动方向与原来入射方向之间的夹角叫做散射角，用 来表示，如图5.1所示。 5.1.1 质厚衬度成像原理 　　散射角α的大小取决于瞄准距离rn，原子核电荷Ze和入射加速电压U。它们的关系如下： 或 （5.l） 5.1.1 质厚衬度成像原理 　　当一个电子与一个孤立的核外电子发生散射作用时，由于两者质量相等，散射过程不仅使入射电子改变运动方向，还发生能量变化，这种散射叫做非弹性散射。散射角可由下式来定； 或 5.2 5.1.1 质厚衬度成像原理 　　　一个原子序数为Z的原子有Z个核外电子。因此，一个孤立原子把电子散射到α以外的散射截面，用σ0来表示，等于原子核弹性散射截面σn和所有核外电子非单性散射截面Z σe之和，即 σ0 σn + Z σe 。原子序数越大，产生弹性散射的比例（ σn /Zσe Z ）就越大。弹性散射是透射电子显微成像的基础；而非弹性散射引起的色差将使背景强度增高，图像衬度降低。 二、质厚衬度成像原理 电子显微镜图像的衬度取决于投射到荧光屏或照相底片上不同区域的电子强度差别。对于非晶体样品来说，入射电子透过样品时碰到的原子数目越多（样品越厚或原子密度越大），样品原子核库仑电场越强，被散射到物镜光阑外的电子就越多，而通过物镜光阑参与成像的电子强度也就越低，因此，样品中相邻区域不同的厚度或密度就会导致成像电子强度的差异，这就产生了衬度。下面讨论非晶体样品的厚度、密度与成像电子强度的关系。 5.1.1 质厚衬度成像原理 如果忽略原子之间的相互作用，则每立方厘米包含N个原子的样品的总散射截面为 5.3 式中： N ——单位体积样品包含的原子数，N NA ρ为密度；A为原子量；NA为阿伏伽德罗常量 ；σ0为原子散射截面。所以 那么在面积为1cm2，厚度为dt的样品体积内散射截面为 5.1.1 质厚衬度成像原理 如果入射到1cm2样品表面积的电子数为n，当其穿透dt厚度样品后有dn个电子被散射到光阑外，即其减小率为dn/n，因此有 5.4 若入射电子总数为n0（t 0），由于受到t厚度的样品散射作用，最后只有n个电子通过物镜光阑参与成像。将式（5.4）式积分得到 n n0e-Qt （5.5） 由于电子束强度I＝ne（e为电子电荷大小），因此上式可写为 I I0e-Qt （5.6） 5.1.1 质厚衬度成像原理 当Qt l 时 5.7 tc叫临界厚度，即电子在样品中受到单次散射的平均自由程。因 此，可以认为，t ≤ tc的样品对电子束是透明的，相应的成像电子强 度为 5.8 鉴于 5.9 5.1.1 质厚衬度成像原理 若定义ρt为质量厚度，那么参与成像的电子束强度I随样品质量厚 度ρt增大而衰减。当Qt l时 5.10 我们把 ρt c叫做临界质量厚度。随加速电压的增加，电子束对样品 透明的临界质量厚度 ρt c增大。 5.1.1 质厚衬度成像原理 　 下面来推导质厚衬度表达式。 　　如果以IA表示强度为I0的入射电子通过样品A区域（厚度tA，总散射截面QA）后进入物镜光阑参与成像的电子强度；IB表示强度为I0的入射电子通过样品B区域（厚度tB，总散射截面QB）后，进人物镜光阑参与成像的电子强度，那么投射到荧光屏或照相底片上相应的电子强度差ΔI IB - IA（假定IB为像背景强度）。习惯上以ΔI / IB来定义图像中A区域的衬度（或反差