真空蒸发技术学案.pptxVIP

真空蒸发技术 2 Contents 复习思考 真空蒸发技术概述 电阻加热蒸发 闪烁蒸发法 电子束蒸发 3 （1）物理气相沉积的阶段？ （2）距离点蒸发源正上方中心h处沉积厚度？ （3）通过距离L没有发生碰撞的分子数量？ 复习思考 概述 真空蒸发系统一般由三个部分组成： 真空室 蒸发源或蒸发加热装置 放置基片及给基片加热装置 4 概述 在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸气压。在一定温度下，蒸发气体与凝聚相平衡过程中所呈现的压力称为该物质的饱和蒸气压。物质的饱和蒸气压随温度的上升而增大，相反，一定的饱和蒸气压则对应着一定的物质温度。规定物质在饱和蒸气压为10-2Torr时的温度，称为该物质的蒸发温度。 5 概述 为避免污染薄膜材料，蒸发源中所用的支撑材料在工作温度下必须具有可忽略的蒸气压。通常所用的支撑材料为难熔金属和氧化物。当选择某一特殊支撑材料时，一定要考虑蒸发物与支撑材料之间可能发生的合金化和化学反应等问题。支撑材料的形状则主要取决于蒸发物。 6 概述 电阻加热蒸发 闪烁蒸发 电子束蒸发 激光熔融蒸发 弧光蒸发、 射频加热蒸发 重要的蒸发方法有： 7 电阻加热蒸发 常用的电阻加热蒸发法是将待蒸发材料放置在电阻加热装置中，通过电路中的电阻加热给待沉积材料提供蒸发热使其汽化。在这一方法中，经常使用的支撑加热材料是难熔金属钨、铊、钼，这些金属皆具有高熔点、低蒸气压特点。支撑加热材料一般采用丝状或箔片形状，如图3-2所示。电阻丝和箔片在电路中的连接方式是直接将其薄端连接到较重的铜或不锈钢电极上，或者把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物等材料制成的坩埚中进行间接加热蒸发。电阻加热蒸发装置结构较简单、成本低、操作简便、被普遍应用。 8 2017-4-11 电阻加热蒸发源材料需具有以下特点： （1）高熔点。 （2）低的饱和蒸气压。 （3）化学性能稳定。 9 电阻加热蒸发 电阻加热蒸发 图3-2a和3-2b所示的加热装置由薄的钨/钼丝制成（直径0.05-0.13厘米）。蒸发物直接置于丝状加热装置上，加热时，蒸发物润湿电阻丝，通过表面张力得到支撑。一般的电阻丝采用多股丝，这样会比单股丝提供更大的表面积。这类加热装置有四个主要缺点： （1）它们只能用于金属或某些合金的蒸发； （2）在一定时间内，只有有限量的蒸发材料被蒸发； （3）在加热时，蒸发材料必须润湿电阻丝； （4）一旦加热，这些电阻丝会变脆，如果处理不当甚至会折断。 10 电阻加热蒸发 凹箔（图3-2c）由钨、铊或钼的薄片制成，厚度一般在0.005-0.015英寸。当只有少量的蒸发材料时最适合于使用这一蒸发源装置。在真空中加热后，钨、铊或钼都会变脆，特别是当它们与蒸发材料发生合金化时更是如此。 11 电阻加热蒸发 氧化物涂层凹箔（图3-2d）也常用作加热源，厚度约为0.025厘米的钼或铊箔由一层较厚的氧化物所覆盖，这样的凹箔加热源的工作温度可达到1900℃，这种加热源所需功率远大于未加涂层的凹箔，这是由于加热源与蒸发材料之间的热接触已大大减少。 12 电阻加热蒸发 锥形丝筐（图3-2e）加热源用于蒸发小块电介质或金属，蒸发材料熔化时或者升华或者不润湿源材料。石英、玻璃、氧化铝、石墨、氧化铍、氧化锆坩埚（图3-2f）用于非直接的电阻加热装置中。 13 电阻加热蒸发 电阻加热蒸发法的主要缺点是： （1）支撑坩埚及材料与蒸发物反应。 （2）难以获得足够高的温度使介电材料如Al2O3、Ta2O5、TiO2等蒸发。 （3）蒸发率低 （4）加热时合金或化合物会分解。 14 闪烁蒸发法 在制备容易部分分馏的多组元合金或化合物薄膜时，一个经常遇到的困难是所得到的薄膜化学组分偏离蒸发物原有的组分。应用闪烁蒸发（或称瞬间蒸发）法可克服这一困难。闪烁蒸发法中少量待蒸发材料以粉末的形式输送到足够热的蒸发盘上以保证蒸发在瞬间发生。 15 闪烁蒸发法 蒸发盘的温度应该足够高使不容易挥发的材料快速蒸发。当一粒蒸发物蒸发时，具有高蒸气压的组元先蒸发，随后是低蒸气压组元蒸发。实际上，在不同的分馏阶段蒸发盘上总是存在一些粒子，因为送料是连续的。但在蒸发时不会有蒸发物聚集在蒸发盘上，瞬间蒸发的净效果使蒸气具有与蒸发物相同的组分。如果基片温度不太高，允许再蒸发现象发生，则可以得到理想配比化合物或合金薄膜。 16 闪烁蒸发法 将粉料输送到加热装置中可以使用不同的装置（机械、电磁、振动、旋转等）。图中的低碳钢盘M可通过在轴上的螺旋调节。当电磁铁通上电流时，M盘即会被电磁铁E吸引。改变通电电流的周期可以得到所希望的低碳钢盘振动频率。管式玻璃管的作用是将粉料输送到蒸发盘上。整个装置封入到内部为真空的铝罩中。 闪烁蒸发装置示意图：M低碳钢