* 目录 历史背景 电子产生 电子控制:电子光学 电子与固态物质的相互作用 电子探测 * 电子探测器 荧光屏 Phosphor screen 电子感光相纸 Electro-photographic paper 多通道板 Mlti-microchannel plate 位置灵敏检测器 Position sensitive detector 光电倍增管 Photomultiplier * 总结 历史背景 了解 电子产生---电子枪 掌握 电子光学 掌握 电子与固态物质的相互作用 重点掌握 电子探测 了解 * 思考题 电子波长由什么决定? 什么是静电透镜和磁透镜?各有什么特点?各用于电镜中的什么位置? 电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?说明电磁透镜的景深大、焦长长、是什么因素影响的结果? 电磁透镜的像差有哪几种?产生原因及克服方法? 电子的弹性散射有什么特点?用于什么分析? 二次电子是怎样产生的?有什么特点? * 像差 Aberration 由于电磁透镜并不完全满足理想的成像条件,从物面上一点散射出的电子束并不一定全部会聚在一点,或者物面上的各点并不按比例成像于同一平面内,结果图像模糊不清,或者与原有的几何形状不完全相似,这种现象称为像差 * 磁透镜的主要像差 球差 (Spherical aberration) 由于近轴区和远轴区对电子束的会聚能力不同造成 玻璃光学来说:因为透镜是球面而无法理想聚焦,由于凹凸镜球差性质相反,可以组合消除球差。 电磁透镜用缩小光阑 色差 (Chromatic aberration) 由于成像电子的波长(能量)不同引起的一种像差 组合不同的焦距的透镜来减小色差,改变电流 轴上像散 (Axial astigmatism) 由于磁透镜不是理想的旋转对称的磁场引起的像差 缩小光阑 * * 电磁透镜的场深(景深)和焦深(焦长) 理想情况下,只有物平面和焦平面 场深(景深, Depth of field) 在不影响透镜的成像分辨率的前提下,物平面可沿透镜轴移动的距离 反映了试样可在物平面上、下沿透镜轴移动的距离 焦深 (Depth of focus) 在不影响透镜的成像分辨率的前提下,像平面可沿透镜轴移动的距离 反映了观察屏或照相底板可在像平面上、下沿透镜轴移动的距离 * * 高景深大焦长的优点 对于一定的光源来讲,孔径半角越小,景深越大;对于电磁透镜来讲,α都很小,一般为10-2~10-3 rad,所以电磁透镜的景深很大,为Df=(200~2000)Δr0;如果电磁透镜的分辨本领是0.1nm,景深20~200nm。 电磁透镜的景深大,对于图像的记录是非常有利的。 同理,电磁透镜的焦深大,对于图像的聚焦操作(尤其是高放大倍数下)是非常有利的。 * 目录 历史背景 电子产生---电子枪 电子控制:电子光学 电子与固态物质的相互作用 探测器 * 电子与物质作用产生的各种信号 二次电子 俄歇电子 特征能量损失电子 X射线 背散射电子 透射电子 吸收电子 等等 * * 电子散射 electron scattering 当一束聚焦电子沿一定方向射入试样内时,在原子的库仑电场作用下,入射电子方向或者速度改变,称为散射Scattering 原子对电子的散射分为: 弹性散射 (Elastic scattering):电子只改变方向,能量基本不变 非弹性散射 (Inelastic scattering):方向改变,能量减小 * 电子散射 electron scattering 原子对电子的散射分为: 原子核对电子的弹性散射 弹性散射电子的能量等于或接近入射电子的能量,是透射电镜中成像和衍射的基础 原子核对电子的非弹性散射 能量损失转变为X射线,无特征波长,形成连续辐射,影响分析的灵敏度和准确度 核外电子对电子的非弹性散射 单电子激发、等离子激发、声子激发,跃迁 * 单电子激发-二次电子 入射电子和原子的核外电子碰撞,将核外电子激发到空能级或脱离原子核成为二次电子,这种单电子激发的过程又称为电离 入射电子在试样内产生二次电子是一个级联过程。 一个能量为20KeV的入射电子在硅中可产生约3000个二次电子,但并不是所有的二次电子都能逸出样品表面 * 单电子激发-二次电子 二次电子(Secondary Electron, SE)的特点 能量较低,小于50eV 仅在试样表面10nm层内产生 逸出时需克服几个eV的逸出功 对试样的表面状态非常敏感,显示表面微区的形貌结构非常有效 SEM中的主要成像信号 * 等离子激发plasma exciatiaon 晶体是处于点阵固定位置的正离子和弥散在整个空间的价电子云组成的电中性体,因此,可以把晶体看作是等离子体 入射电子会引
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